[发明专利]一种金属层蚀刻速率的监控方法及其装置

权利要求书

1.一种金属层蚀刻装置，其特征在于，包括：

玻璃基板，表面制备有待蚀刻的金属层；

光信号发射器，设置于所述玻璃基板的一侧，用于向所述玻璃基板垂直地发射穿透性光信号；

光信号接收器，相对所述光信号发射器设置于所述玻璃基板的另一侧，用于接收所述光信号发射器发射的穿过所述玻璃基板的光信号；

光罩，设置于所述光信号发射器与所述光信号接收器之间，且三者的连线与所述玻璃基板的平面垂直，用于起标识作用；

其中，所述玻璃基板通过所述光罩时，所述光信号发射器发射所述光信号并通过所述光罩射向所述玻璃基板，从所述玻璃基板进入蚀刻段时起至所述光信号接收器接收到所述光信号的时间点为所述金属层蚀刻完成所用的蚀刻时间，根据所述金属层的膜厚以及所述蚀刻时间获取所述金属层的蚀刻速率。

2.根据权利要求1所述的金属层蚀刻装置，其特征在于，所述金属层蚀刻装置还包括：

多个喷嘴，用于向所述金属层喷洒蚀刻液，所述喷嘴喷洒的所述蚀刻液的喷洒面积覆盖并大于整个所述玻璃基板；

多个滚轮，用于将承载在其上的所述玻璃基板向预设方向移动；

其中，所述喷嘴设在所述玻璃基板的上方，且位于所述光信号接收器的下方，多个所述喷嘴与多个所述滚轮上下相对一一对应布置。

3.根据权利要求2所述的金属层蚀刻装置，其特征在于，所述光信号发射器、所述光信号接收器以及所述光罩对应位于相邻两个所述喷嘴/所述滚轮之间的位置。

4.根据权利要求2所述的金属层蚀刻装置，其特征在于，一个所述光信号发射器与一个所述光信号接收器以及一个所述光罩组成一个光信号感应模组，所述光信号感应模组的个数为多个。

5.根据权利要求4所述的金属层蚀刻装置，其特征在于，所述光信号感应模组沿所述玻璃基板移动方向间隔分布。

6.一种金属层蚀刻速率的监控方法，其特征在于，应用于权利要求1-5中的任一项所述的金属层蚀刻装置，所述监控方法包括以下步骤：

记录所述玻璃基板进入蚀刻段开始进行蚀刻时的时间点为蚀刻始点，在所述玻璃基板通过所述光罩时，控制所述光信号发射器向所述玻璃基板发射穿透性光信号，且保持发射状态；

在所述金属层进行蚀刻的过程中，控制所述光信号接收器实时监控是否有光信号从所述玻璃基板穿透出来；

若有光信号从所述玻璃基板穿透出来，则获取所述光信号接收器接收该光信号的时间点作为所述金属层的蚀刻终点；

根据所述蚀刻终点和所述蚀刻始点获取所述金属层蚀刻完成所用的蚀刻时间，根据所述金属层的膜厚以及所述蚀刻时间获取所述金属层的蚀刻速率。

7.根据权利要求6所述的监控方法，其特征在于，所述金属层的所述蚀刻时间为所述蚀刻终点与所述蚀刻始点的时间差长度。

8.根据权利要求6所述的监控方法，其特征在于，所述金属层的蚀刻速率为所述金属层的膜厚除以所述蚀刻时间所计算出的值。

9.根据权利要求6所述的监控方法，其特征在于，在所述金属层进行蚀刻的过程中，若所述光信号接收器未接收到所述光信号，则所述玻璃基板继续向预设方向移动进行蚀刻；

当所述玻璃基板移动至下一组所述光信号感应模组时，该组所述光信号感应模组中的所述光信号发射器向所述玻璃基板发射穿透性光信号，且保持发射状态，并控制对应的所述光信号接收器实时监控是否有光信号从所述玻璃基板穿透出来。

10.根据权利要求6所述的监控方法，其特征在于，获取所述金属层的蚀刻速率，之后还包括：

判断所述蚀刻速率是否大于预设蚀刻速率阈值；

若是则判定所述金属层蚀刻装置及蚀刻液，并停止对后续的所述金属层进行蚀刻；

若不是则继续对后续的所述金属层进行蚀刻。