[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、以及显示面板有效
申请号: | 201910278652.4 | 申请日: | 2019-04-09 |
公开(公告)号: | CN110061012B | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | 胡建平;杨文萍 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1337 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制作方法 以及 显示 面板 | ||
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:
基体,所述基体包括依次连接的显示区、扇出区、以及绑定区;
多条导线,所述多条导线设置于所述基体上,且在所述扇出区形成多个间隔设置的聚拢图案,所述聚拢图案内的所述导线从所述显示区与所述扇出区的连接处向所述绑定区延伸,且延伸的距离越长,相互之间的间隔越小;
多条导流线,所述多条导流线间隔设置于相邻两个所述聚拢图案之间,且向远离所述显示区的方向延伸,所述导流线的材质为绝缘材料,所述导流线在相邻两个所述聚拢图案之间区域内的分布密度与所述导线在所述聚拢图案内的分布密度相同。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述多条导流线呈轴对称排布,且位于对称轴处的所述导流线垂直于所述显示区与所述扇出区的接触边界。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,位于所述对称轴两侧的所述导流线与所述接触边界之间的夹角小于90度。
4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述多条导流线平行间隔设置,且垂直于所述显示区与所述扇出区的接触边界。
5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述导流线的延伸路径为直线或曲线。
6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述导流线的材质与所述导线的材质不相同。
7.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:
提供基体,所述基体包括依次连接的显示区、扇出区、以及绑定区;
在所述基体上形成多条导线和多条导流线,其中,所述多条导线在所述扇出区形成多个间隔设置的聚拢图案,所述聚拢图案内的所述导线从所述显示区与所述扇出区的连接处向所述绑定区延伸,且延伸的距离越长,相互之间的间隔越小,所述多条导流线间隔设置于相邻两个所述聚拢图案之间,且向远离所述显示区的方向延伸,所述导流线的材质为绝缘材料,所述导流线在相邻两个所述聚拢图案之间区域内的分布密度与所述导线在所述聚拢图案内的分布密度相同。
8.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述在所述基体上形成多条导线和多条导流线的步骤,具体包括:
利用第一掩膜版,在所述基体上形成所述多条导线;
在所述导线上形成绝缘层;
利用第二掩膜板,在所述绝缘层上形成所述多条导流线。
9.根据权利要求7所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述在所述基体上形成多条导线和多条导流线的步骤,具体包括:
在所述基体上形成所述多条导线和所述多条导流线,并在所述显示区上形成所述阵列基板的像素,所述像素与所述导线连接。
10.一种显示面板,其特征在于,包括:
第一基板、第二基板、以及液晶层;
其中,所述第一基板和/或第二基板为权利要求1-6任一项所述的阵列基板,所述液晶层位于所述第一基板及所述第二基板之间。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的