[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、以及显示面板有效

专利信息
申请号: 201910278652.4 申请日: 2019-04-09
公开(公告)号: CN110061012B 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 胡建平;杨文萍 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1337
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制作方法 以及 显示 面板
【说明书】:

本申请涉及一种阵列基板及其制作方法、以及显示面板,该阵列基板包括:基体,基体包括依次连接的显示区、扇出区、以及绑定区;多条导线,多条导线设置于基体上,且在扇出区形成多个间隔设置的聚拢图案,聚拢图案内的导线从显示区与扇出区的连接处向绑定区延伸,且延伸的距离越长,相互之间的间隔越小;多条导流线,多条导流线设置于相邻两个聚拢图案之间,且向远离显示区的方向延伸。通过这种方式,对现有设计中扇出区的“倒V字形”图案进行重新设计,以避免由于“倒V字形”图案对配向液扩散的阻挡而导致的显示区边缘处亮度不均匀问题,进而提高显示面板的品质。

【技术领域】

本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种阵列基板及其制作方法、以及显示面板。

【背景技术】

在阵列基板中,为保证图案密度一致,扇出区“扇形”图案与“扇形”图案交接处采用“倒V字形”图案。

但,由于薄膜晶体管液晶显示面板(TFT LCD)窄边框的设计,阵列基板显示区距离扇出区线路过近。在配向膜制程中,配向液在显示区边缘的扩散受到扇出区“倒V字形”图案的阻挡,导致配向液在显示区边缘处堆积,出现显示区边缘亮度不均匀的现象,影响显示面板的品质。

发明内容】

本申请的目的在于提供一种阵列基板及其制作方法、以及显示面板,通过对现有设计中扇出区的“倒V字形”图案进行重新设计,以避免由于“倒V字形”图案对配向液扩散的阻挡而导致的显示区边缘处亮度不均匀问题,进而提高显示面板的品质。

为了解决上述问题,本申请实施例提供了一种阵列基板,该阵列基板包括:基体,基体包括依次连接的显示区、扇出区、以及绑定区;多条导线,多条导线设置于基体上,且在扇出区形成多个间隔设置的聚拢图案,聚拢图案内的导线从显示区与扇出区的连接处向绑定区延伸,且延伸的距离越长,相互之间的间隔越小;多条导流线,多条导流线设置于相邻两个聚拢图案之间,且向远离显示区的方向延伸。

其中,多条导流线呈轴对称排布,且位于对称轴处的导流线垂直于显示区与扇出区的接触边界。

其中,位于对称轴两侧的导流线与接触边界之间的夹角小于90度。

其中,多条导流线平行间隔设置,且垂直于显示区与扇出区的接触边界。

其中,导流线的延伸路径为直线或曲线。

其中,导流线的材质与导线的材质不相同。

为了解决上述问题,本申请实施例还提供了一种阵列基板的制作方法,该方法包括:提供基体,基体包括依次连接的显示区、扇出区、以及绑定区;在基体上形成多条导线和多条导流线,其中,多条导线在扇出区形成多个间隔设置的聚拢图案,聚拢图案内的导线从显示区与扇出区的连接处向绑定区延伸,且延伸的距离越长,相互之间的间隔越小,多条导流线位于相邻两个聚拢图案之间,且向远离显示区的方向延伸。

其中,在基体上形成多条导线和多条导流线的步骤,具体包括:利用第一掩膜版,在基体上形成多条导线;在导线上形成绝缘层;利用第二掩膜板,在绝缘层上形成多条导流线。

其中,在基体上形成多条导线和多条导流线的步骤,具体包括:在基体上形成多条导线和多条导流线,并在显示区上形成阵列基板的像素,像素与导线连接。

为了解决上述问题,本申请实施例还提供了一种显示面板,该显示面板包括:第一基板、第二基板、以及液晶层;其中,第一基板和/或第二基板为上述任一项的阵列基板,液晶层位于第一基板及第二基板之间。

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