[发明专利]一种高精度抛光粉及其制备方法

权利要求书

1.一种高精度抛光粉，其特征在于，抛光粉含有稀土的重量份（REO）≥80%，其中CeO₂/REO≥55%。

2.根据权利要求1所述的一种高精度抛光粉，其特征在于，所述的抛光粉含有稀土的重量份（REO）≥84%，其中CeO₂/ REO≥60%。

3.根据权利要求1所述的一种高精度抛光粉，其特征在于，所述的抛光粉含有稀土的重量份（REO）≥88%，其中CeO₂/ REO≥65%。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种高精度抛光粉，其特征在于，所述抛光粉的最大粒径D100≤10μm。

5.根据权利要求1-3任一项所述的一种高精度抛光粉，其特征在于，所述抛光粉的中心粒径0.3≤D50≤2μm。

6.根据权利要求1-3任一项所述的一种高精度抛光粉，其特征在于，所述抛光粉的6.5≤pH≤7。

7.根据权利要求4所述的一种高精度抛光粉，其特征在于，所述抛光粉的6.5≤pH≤7。

8.根据权利要求5所述的一种高精度抛光粉，其特征在于，所述抛光粉的6.5≤pH≤7。

9.根据权利要求1所述的一种高精度抛光粉，其特征在于，所述抛光粉的还包含氧化铝-苯丁醛基聚苯烷基醚类聚合物，重量份数为0.5-3。

10.一种高精度抛光粉的制备方法，其特征在于，

1）将含有Ce³⁺的稀土加入到氢氧化钠溶液中，用碳酸沉淀剂来沉淀Ce³⁺及稀土中其它金属离子，得到稀土抛光粉的前驱体，其为含Ce³⁺的稀土碳酸盐；

2）将稀土抛光粉的前驱体在还原性气氛下进行焙烧，同时控制氧分压在800-5000Pa，焙烧温度为900℃-1100℃，焙烧时间为12-28h，然后经过后处理可以制得含Ce⁴⁺的稀土抛光粉；3）将步骤2）中得到的物质进行研磨、筛分、混合和包装。