[发明专利]一种高精度抛光粉及其制备方法

说明书

本发明公开了一种高精度抛光粉及其制备方法，该抛光粉的稀土重量（REO）≥80%，CeO₂/REO≥55%。本发明还公开了一种高精度抛光粉的制备方法。本发明提供的高精度抛光粉具有粒度分布均匀，悬浮性好，硬度高，研磨均匀，使用寿命长。制备方法工艺流程简单，环保，工艺容易操作，易于工业化生产。

技术领域

本发明属于高精度材料技术领域，具体涉及一种高精度抛光粉的制备方法。

背景技术

我国的稀土储量及产量均居世界第一，但是稀土生产过程中伴随着高污染，随着我国环境保护要求的不断提升和国内对稀土资源日益增强的保护意识，稀土的供求关系逐渐向供方转移。同时，随着稀土应用的日益广泛，稀土的价格长期看涨已经成为一种趋势。

稀土抛光粉的关键成份为氧化铈，国内根据铈含量的高低把抛光粉划分为低铈(CeO₂/REO；50％)、富铈(CeO₂/REO；50-75％)、高铈(CeO₂/REO；75％)。稀土抛光粉主要用于平板玻璃、透镜、光掩膜、眼镜、LCD和宝石等的抛光。

中国专利CN101284983A公开了一种超细的稀土抛光粉的制备方法，采用Ce离子盐溶液，加入沉淀剂沉淀后，向浆料中加入铵盐和F-调节离子强度，经陈化、固液分离、焙烧后得到稀土抛光粉。此方法在沉淀后向母液中加铵盐和F-离子，使得溶液粘度增大，固液分离困难且加入铵根增加污水处理难度，不利于环保和降低成本。

中国专利CN102031063A公开了一种稀土抛光粉的生产方法，将稀土碳酸盐与铵盐按一定比例混料后在400℃下烘干、粉碎后高温焙烧。此方法产品质量不稳定，难以控制，且生产过程中排放废气，污染环境。

发明内容

针对现有技术中存在的问题，本发明提供一种高精度抛光粉的制备方法及其制备方法，所得到的材料具有粒度分布均匀，悬浮性好，研磨均匀，使用寿命长。

为了解决上述问题，本发明采用以下技术方案：

一种高精度抛光粉，抛光粉含有稀土的重量份（REO）≥80%，其中CeO₂/ REO≥55%。

进一步，所述的抛光粉含有稀土的重量份（REO）≥84%，其中CeO₂/ REO≥60%。

再进一步，所述的抛光粉含有稀土的重量份（REO）≥88%，其中CeO₂/ REO≥65%。

所述抛光粉的最大粒径D100≤10μm。

所述抛光粉的中心粒径0.3≤D50≤2μm。

所述抛光粉的6.5≤pH≤7。

所述抛光粉的还包含氧化铝-苯丁醛基聚苯烷基醚类聚合物，重量份数为0.5-3。

一种高精度抛光粉的制备方法，

1）将含有Ce³⁺的稀土加入到氢氧化钠溶液中，用碳酸沉淀剂来沉淀Ce³⁺及稀土中其它金属离子，得到稀土抛光粉的前驱体，其为含Ce³⁺的稀土碳酸盐；

2）将稀土抛光粉的前驱体在还原性气氛下进行焙烧，同时控制氧分压在800-5000Pa，焙烧温度为900℃-1100℃，焙烧时间为12-28h，然后经过后处理可以制得含Ce⁴⁺的稀土抛光粉。

3）将步骤2）中得到的物质进行研磨、筛分、混合和包装。

以下为氧化铝-苯丁醛基聚苯烷基醚类聚合物的制备方法