[发明专利]用于执行光学邻近校正的方法和使用其制造掩模的方法

权利要求书

1.一种用于执行光学邻近校正OPC的方法，所述方法包括：

提取掩模上的图案的布局的边缘；

提取边缘中相邻边缘之间的宽度等于或小于特定距离的边缘对；

针对边缘对中的每一个边缘对产生耦合边缘；

通过将边缘滤波器应用于边缘来产生第一掩模图像；

通过将耦合滤波器应用于耦合边缘来校正第一掩模图像。

2.如权利要求1所述的方法，其中，对于与边缘对相应的图案，耦合滤波器是通过从通过电磁场模拟获得的严格掩模图像减去在校正之前的第一掩模图像和通过薄掩模近似获得的第二掩模图像而获得的。

3.如权利要求2所述的方法，其中，耦合滤波器的形状在耦合边缘的部分处具有最高振幅并且在远离耦合边缘的距离处具有较小振幅。

4.如权利要求2所述的方法，其中，严格掩模图像与在光通过掩模之后立即在掩模的背面上计算的掩模的近场图像相应，并且第一掩模图像与近场图像的一部分相应。

5.如权利要求2所述的方法，其中，电磁场模拟包括严格耦合波分析模拟或有限差分时域模拟。

6.如权利要求1所述的方法，其中，通过使用用于至少两个宽度的图案的耦合滤波器计算用于不同宽度的图案的耦合滤波器。

7.如权利要求6所述的方法，其中，通过插值方法计算用于所述不同宽度的图案的耦合滤波器。

8.如权利要求6所述的方法，其中，当用于宽度a的图案的耦合滤波器被表示为CF(a)并且用于宽度b的图案的耦合滤波器被表示为CF(b)时，

用于宽度c的图案的耦合滤波器CF(c)是通过下面的公式计算的：

CF(c)＝[(b-c)×CF(a)+(c-a)×CF(b)]/(b-a)，

其中，宽度b大于宽度a，并且宽度c是宽度a与宽度b之间的任意值。

9.如权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括：通过将校正的第一掩模图像与通过薄掩模近似获得的第二掩模图像相加来产生最终掩模图像。

10.如权利要求1所述的方法，其中，提取布局的边缘的步骤包括：提取布局的垂直方向上的垂直边缘和水平方向上的水平边缘。

11.如权利要求10所述的方法，其中，产生第一掩模图像的步骤包括：将不同的边缘滤波器应用于左侧的垂直边缘和右侧的垂直边缘。

12.如权利要求10所述的方法，其中，产生第一掩模图像的步骤包括：通过将不同的边缘滤波器分别应用于垂直边缘和水平边缘来产生第一掩模图像，并且

所述方法还包括：通过将校正的第一掩模图像与通过薄掩模近似获得的第二掩模图像相加来产生最终掩模图像。

13.如权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括：通过将校正的第一掩模图像与通过薄掩模近似获得的第二掩模图像相加来产生最终掩模图像，并且光学OPC模型是通过使用最终掩模图像产生的。

14.一种用于执行光学邻近校正OPC的方法，所述方法包括：

提取掩模上的图案的布局的边缘；

根据特定标准提取边缘中的边缘对；

通过将边缘滤波器应用于边缘来产生第一掩模图像；

通过将耦合滤波器应用于边缘对来校正第一掩模图像；

通过将经由薄掩模近似获得的第二掩模图像与校正的第一掩模图像相加来产生最终掩模图像。

15.如权利要求14所述的方法，其中，校正第一掩模图像的步骤包括：在边缘对的每一个边缘对的中心处产生耦合边缘，并且将耦合滤波器应用于耦合边缘。