[发明专利]一种显影装置及显影方法

权利要求书

1.一种显影装置，其特征在于，包括：

工艺腔室，所述工艺腔室内设置有待显影复合件的容纳区；所述待显影复合件包括基板与掩膜板；

显影液蒸汽供应装置，所述显影液蒸汽供应装置用于向所述工艺腔室中提供显影液蒸汽；

冷却装置，所述冷却装置用于冷却所述基板。

2.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，还包括沿所述工艺腔室内壁周向设置的基板限位件，且所述基板限位件对应所述基板设置有开口，所述开口面积小于所述基板面积。

3.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，所述基板限位件位于所述掩膜板远离所述基板的一侧。

4.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，所述基板限位件位于所述基板远离所述掩膜板的一侧；所述待显影复合件固定组件还包括位于所述掩膜板远离所述基板一侧的掩膜板支撑件；

优选地，所述掩膜板固定件包括沿垂直于所述基板方向的导轨，以及可移动设置在所述导轨上的掩膜板支撑件。

5.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，还包括位于所述基板远离所述掩膜板一侧的基板吸附件，

优选地，所述基板吸附件包括若干个真空吸盘，所述若干个真空吸盘用于吸附所述基板；

优选地，所述掩膜板为金属掩模板，所述基板吸附件包括设置于所述基板远离掩膜板一侧的磁性吸附组件。

6.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述冷却装置包括若干个冷风出口，所述若干个冷风出口朝向所述基板设置；或

所述冷却装置包括至少一个冷水管道，所述至少一个冷水管道设置在所述基板远离所述掩膜板的一侧。

7.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述工艺腔室内部设置有显影液蒸汽分布器，所述显影液蒸汽分布器将所述工艺腔室划分为第一区域和第二区域，所述待显影复合件的容纳区位于所述第一区域，所述显影液蒸汽提供装置向所述第二区域提供所述显影液蒸汽。

8.根据权利要求1或6所述的显影装置，其特征在于，所述显影液蒸汽提供装置包括第一加热件和显影液容纳腔；

优选地，所述第一加热件和显影液容纳腔设置在所述工艺腔室内部；

优选地，所述第一加热件为加热底座，所述加热底座位于所述显影液容纳腔内部的底部；

优选地，所述显影液容纳腔为所述工艺腔室的一部分。

9.一种显影方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供具有光刻胶的待显影基板；

对所述待显影基板进行冷却；

向工艺腔室内提供显影液蒸汽，所述显影液蒸汽在冷却后的待显影基板具有光刻胶的表面液化，进而对所述光刻胶进行显影。

10.根据权利要求9所述的显影方法，其特征在于，包括多次对所述光刻胶进行显影的步骤，在多次对所述光刻胶进行显影的步骤中，包括前次显影步骤和后次显影步骤，在所述后次显影步骤前，将所述基板上残留的显影液清除。