[发明专利]一种显影装置及显影方法

说明书

本发明涉及一种显影装置及显影方法，显影装置包括：工艺腔室，所述工艺腔室内设置有待显影复合件的容纳区；所述待显影复合件包括基板与掩膜板；显影液蒸汽供应装置，所述显影液蒸汽供应装置用于向所述工艺腔室中提供显影液蒸汽；冷却装置，所述冷却装置用于冷却所述基板。通过显影液蒸汽供应装置像待显影基板提供显影液蒸汽，并在冷却装置的作用下使显影液蒸汽在待反应的光刻胶表面液化为纳米尺寸的液滴，一方面可以提高显影均匀性，另一方面可以节省曝光步骤，节省工艺成本的同时还提高了生产效率。

技术领域

本发明涉及显示面板制造领域，具体涉及一种显影装置及显影方法。

背景技术

在现有的显示面板制造的过程中，图形化工艺流程贯穿了近乎整个制程，直接影响着产品的良率。目前图形化工艺中多借助掩膜板对光刻胶进行显影，进而实现图形化。但曝光显影设备价格昂贵，曝光显影工艺耗时较长，导致工艺成本大大增加，同时产能降低。且目前显影工艺多采用自上而下的喷淋方式，具体利用多个显影液喷嘴分别向滚筒上传动的玻璃上方喷涂显影液，进而实现显影，受到显影液供给不稳定、机台震动以及喷嘴本身的原因，因此显影的均一性不佳。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种显影装置以及显影方法，以改善显影不均匀的问题。

一种显影装置，包括：

工艺腔室，所述工艺腔室内设置有待显影复合件的容纳区；所述待显影复合件包括基板与掩膜板；

显影液蒸汽供应装置，所述显影液蒸汽供应装置用于向所述工艺腔室中提供显影液蒸汽；

冷却装置，所述冷却装置用于冷却所述基板。

在其中一个实施例中，还包括待显影复合件固定组件。

在其中一个实施例中，所述待显影复合件固定组件包括沿所述工艺腔室内壁周向设置的基板限位件，且所述基板限位件对应所述基板设置有开口，所述开口面积小于所述基板面积。

在其中一个实施例中，所述基板限位件位于所述掩膜板远离所述基板的一侧；或

所述基板限位件位于所述基板远离所述掩膜板的一侧，所述待显影复合件固定组件还包括位于所述掩膜板远离所述基板一侧的掩膜板支撑件，优选地，所述掩膜板固定件包括沿垂直于所述基板方向的导轨，以及可移动设置在所述导轨上的掩膜板支撑件。

在其中一个实施例中，所述待显影复合件固定组件还包括位于所述基板远离所述掩膜板一侧的基板吸附件140，

优选地，所述基板吸附件140包括若干个真空吸盘，所述若干个真空吸盘用于吸附所述基板；

优选地，所述掩膜板为金属掩模板，所述基板吸附件140包括设置于所述基板远离掩膜板一侧的磁性吸附组件。

在其中一个实施例中，所述冷却装置包括若干个冷风出口，所述若干个冷风出口朝向所述基板设置；或

所述冷却装置包括至少一个冷水管道，所述至少一个冷水管道设置在所述基板远离所述掩膜板的一侧。

在其中一个实施例中，所述工艺腔室内部设置有显影液蒸汽分布器，所述显影液蒸汽分布器将所述工艺腔室划分为第一区域和第二区域，所述待显影复合件的容纳区位于所述第一区域，所述显影液蒸汽提供装置向所述第二区域提供所述显影液蒸汽。

在其中一个实施例中，所述显影液蒸汽提供装置包括第一加热件和显影液容纳腔；优选地，所述第一加热件和显影液容纳腔设置在所述工艺腔室内部；优选地，所述第一加热件为加热底座，所述加热底座位于所述显影液容纳腔内部的底部；优选地，所述显影液容纳腔为所述工艺腔室的一部分。

一种显影方法，包括如下步骤：

提供具有光刻胶的待显影基板；