[发明专利]一种测量不同介质间的接触电阻的方法及装置在审
| 申请号： | 201910304386.8 | 申请日： | 2019-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN110007151A | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 孙豪 | 申请（专利权）人： | 苏州浪潮智能科技有限公司 |
| 主分类号： | G01R27/02 | 分类号： | G01R27/02 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 刘小峰 |
| 地址： | 215100 江苏省苏州市吴*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 接触电阻 测量 总电阻 计算机可读存储介质 计算机设备 线性拟合 拟合 贴合 | ||
1.一种测量不同介质间的接触电阻的方法，其特征在于，包括：
将第一介质和第二介质贴合在一起，测量二者的总电阻；
保持第一介质不变并多次改变第二介质的厚度，分别测量每次的总电阻；以及
对测量的多个总电阻进行线性拟合，并通过拟合所得到的曲线来确定第一介质和第二介质的接触电阻。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对测量的多个总电阻进行线性拟合包括：在直角坐标系中对测量的多个总电阻进行线性拟合，得到一元线性拟合曲线。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，通过拟合所得到的曲线来确定第一介质和第二介质的接触电阻包括：将所述一元线性拟合曲线反向延长交于所述直角坐标系的纵轴，所述交点为所述第一介质和第二介质的接触电阻。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述一元线性拟合曲线可以用下式表示：
Y＝KX+b，其中，Y表示总电阻，X表示第二介质的厚度，K表示一元线性拟合曲线的斜率，b表示第一介质和第二介质的接触电阻。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述多次改变的多个第二介质的厚度成等差数列。
6.一种计算机设备，其特征在于，包括：
至少一个处理器；以及
存储器，所述存储器存储有可在所述处理器上运行的计算机指令，所述指令由所述处理器执行以实现如下步骤：
将第一介质和第二介质贴合在一起，测量二者的总电阻；
保持第一介质不变并多次改变第二介质的厚度，分别测量每次的总电阻；以及
对测量的多个总电阻进行线性拟合，并通过拟合所得到的曲线来确定第一介质和第二介质的接触电阻。
7.根据权利要求6所述的计算机设备，其特征在于，对测量的多个总电阻进行线性拟合包括：在直角坐标系中对测量的多个总电阻进行线性拟合，得到一元线性拟合曲线。
8.根据权利要求7所述的计算机设备，其特征在于，通过拟合所得到的曲线来确定第一介质和第二介质的接触电阻包括：将所述一元线性拟合曲线反向延长交于所述直角坐标系的纵轴，所述交点为所述第一介质和第二介质的接触电阻。
9.根据权利要求8所述的计算机设备，其特征在于，所述一元线性拟合曲线可以用下式表示：
Y＝KX+b，其中，Y表示总电阻，X表示第二介质的厚度，K表示一元线性拟合曲线的斜率，b表示第一介质和第二介质的接触电阻。
10.一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时执行权利要求1-5任意一项所述的方法。
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