[发明专利]微发光二极管的转移设备及转移方法

权利要求书

1.一种转移设备，用于将微发光二极管转移至基板上，其特征在于，所述转移设备包括：

滚筒，所述滚筒包括筒侧壁、筒端壁及由所述筒侧壁和所述筒端壁包围的空腔；所述筒侧壁的外周面设有沿周向阵列排布的多个吸附槽，所述空腔与各所述吸附槽的底部连通；每个所述吸附槽均沿深度方向朝所述滚筒中轴线逐渐收缩，并与所述微发光二极管的一端匹配，用于吸附所述微发光二极管；

所述筒端壁设有与所述空腔连通的开孔，通过所述开孔使得所述空腔形成负压状态。

2.根据权利要求1所述的转移设备，其特征在于，至少一个所述筒端壁设有多个排水孔，所述排水孔与所述空腔连通，且所述排水孔与所述筒侧壁的外周面在径向上的最小距离大于所述筒侧壁的厚度。

3.根据权利要求2所述的转移设备，其特征在于，所述开孔的中心位于所述滚筒的中心线；所述滚筒还包括：

转轴，穿设于所述开孔，并与所述筒端壁固定连接，且所述转轴的至少一端位于所述空腔外；所述转轴位于所述空腔内的部分的外周面设有气孔，所述转轴内设有气道，所述气道的一端与所述气孔连通，所述气道的另一端延伸至所述滚筒外且为开放端；

负压组件，与所述气道的开放端连通，用于使所述空腔内形成负压。

4.根据权利要求2所述的转移设备，其特征在于，每个所述吸附槽的底部均设有与所述空腔连通的吸附孔，所述排水孔大于所述吸附孔。

5.根据权利要求1所述的转移设备，其特征在于，所述吸附槽为正棱台状结构或圆台状结构。

6.根据权利要求1-5任一项所述的转移设备，其特征在于，所述转移设备还包括：

容置槽，用于盛放溶液。

7.根据权利要求6所述的转移设备，其特征在于，所述转移设备还包括：

旋转驱动组件，与所述滚筒连接，用于驱动所述滚筒沿周向转动；

搬运机构，与所述旋转驱动组件连接，用于驱动所述滚筒移出或部分移入所述容置槽，且在所述滚筒位于所述容置槽外时，所述搬运机构用于驱动所述滚筒沿预设方向水平移动。

8.根据权利要求7所述的转移设备，其特征在于，所述基板具有安装区和分隔于所述安装区两侧的第一定位区和第二定位区，所述安装区用于安装所述微发光二极管；

所述转移设备还包括：

定位组件，用于检测所述滚筒是否位于与所述第一定位区正对的位置，以及检测所述滚筒是否位于与所述第二定位区正对的第二位置；

在所述定位组件检测到所述滚筒位于与所述第一定位区正对的第一位置时，所述定位组件能控制所述搬运机构驱动所述滚筒沿所述预设方向水平移动，并控制所述旋转驱动组件驱动所述滚筒转动，且所述滚筒距离所述基板最远的一点的线速度的方向朝向所述第二定位区；

在所述定位组件检测到所述滚筒位于与所述第二定位区正对的第二位置时，所述定位组件能控制所述搬运机构使所述滚筒停止水平移动，且控制所述旋转驱动组件使所述滚筒停止转动。

9.一种微发光二极管的转移方法，采用权利要求1-8任一项所述的转移设备，其特征在于，所述转移方法包括：

将多个微发光二极管置于溶液中；

将所述滚筒的部分筒侧壁浸入所述溶液，并使所述滚筒沿周向转动；

通过所述开孔在所述空腔内产生负压，在负压作用下，所述微发光二极管吸附在所述吸附槽内；

将吸附在所述滚筒上的所述微发光二极管转移至基板上。

10.根据权利要求9所述的转移方法，其特征在于，将吸附在所述滚筒上的所述微发光二极管转移至基板上，包括：

在基板上设置多个粘接垫，所述粘接垫的数量与所述吸附槽的数量相同，且所述粘接垫的分布方式与所述筒侧壁展开成平面后的各个所述吸附槽的分布方式一致；

将吸附有所述微发光二极管的滚筒在所述基板上沿预设方向水平移动，同时，使所述滚筒沿周向转动，以将各个所述吸附槽吸附的微发光二极管一一对应的粘接于各个所述粘接垫上。