[发明专利]薄膜的制造方法有效
申请号: | 201910312665.9 | 申请日: | 2014-10-22 |
公开(公告)号: | CN110085370B | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 西康孝;中积诚 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14;B05D7/24;B05D3/06;B05D1/12 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;褚瑶杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 制造 方法 | ||
1.一种利用成膜装置制造薄膜的方法,其中,所述方法包括:
在成膜装置的第1槽中使含有微粒的分散液雾化的雾化工序;
将经雾化的分散液沿第1方向供给至所述成膜装置的第2槽顶面的入口中,并沿与第1方向相反的第2方向从第2槽顶面的出口排出经雾化的分散液,从而将经雾化的分散液经由第2槽搬送至第3槽的雾搬送工序;
将经雾化的所述分散液供给至第3槽中的基板上的供给工序;和
使供给至所述基板上的所述分散液干燥的干燥工序。
2.如权利要求1所述的制造薄膜的方法,其中,所述经雾化的分散液中所含有的微粒的粒径均为100nm以下。
3.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法,其中,所述基板含有树脂,并且具有可挠性。
4.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法,其中,所述干燥工序中,在低于所述基板的软化点的温度干燥所述基板。
5.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法,其中,所述干燥工序中,在10℃以上且40℃以下的温度干燥所述基板。
6.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法,其中,所述方法还包括:
在所述基板上形成由亲水部与斥水部构成的亲斥水图案的图案形成工序,
其中,对于在形成所述亲斥水图案的所述供给工序中,对具有所述亲斥水图案的所述基板进行所述经雾化的分散液的供给。
7.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法,其中,所述方法还包括:
在所述干燥工序之后,对于所述基板照射紫外线的照射工序。
8.如权利要求7所述的制造薄膜的方法,其中,所述方法还包括:
对于经紫外线照射的所述基板进行供给所述经雾化的分散液的第2供给工序。
9.如权利要求8所述的制造薄膜的方法,其中,
所述第2供给工序中,向所述基板供给含有与在所述供给工序中供给的所述微粒不同的第2微粒的分散液的雾。
10.如权利要求7所述的制造薄膜的方法,其中,
所述照射工序中,照射至少包含200nm以下的波长的紫外线。
11.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法,其中,
所述供给工序涉及向相对于水平面倾斜的所述基板供给所述经雾化的分散液。
12.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法,其中,
所述供给工序中,将经雾化的分散液供给到相对于与所述经雾化的分散液的供给方向正交的面倾斜的所述基板。
13.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法,其中,所述微粒包含含有铟、锌、锡和钛的任一种的金属氧化物微粒。
14.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法,其中,所述供给工序中,牵引呈辊状形成的所述基板,并对所牵引的呈辊状形成的所述基板供给经雾化的所述分散液。
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