[发明专利]薄膜的制造方法有效
申请号: | 201910312665.9 | 申请日: | 2014-10-22 |
公开(公告)号: | CN110085370B | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 西康孝;中积诚 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14;B05D7/24;B05D3/06;B05D1/12 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;褚瑶杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 制造 方法 | ||
本发明目的在于提供一种薄膜的制造方法,其代替现有技术的薄膜制造技术。本发明的薄膜的制造方法的特征在于,其包括:在所述成膜装置的第1槽中使含有微粒的分散液雾化的工序;将经雾化的分散液沿第1方向供给至第2槽顶部的入口中,并沿与第1方向相反的第2方向从第2槽顶部的出口排出经雾化的分散液,从而将经雾化的分散液经由所述成膜装置的第2槽搬送至第3槽的工序;将经雾化的所述分散液供给至第3槽中的基板上的工序;和使供给至所述基板上的所述分散液干燥的工序。
本申请是分案申请,其原申请的国际申请号为PCT/JP2014/078064,国际申请日为2014年10月22日,中国国家申请号为201480052051.7,进入中国国家阶段的进入日为2016年03月22日,发明名称为“薄膜的制造方法、透明导电膜”。
技术领域
本发明涉及薄膜的形成方法、透明导电膜。本发明要求2013年10月30日申请的日本专利的申请号2013-225549的优先权,对于认可基于文献参照方式的编入的指定国,通过参照方式将该申请所述的内容编入本申请中。
背景技术
由氧化铟锡(ITO)、氧化锌(ZnO)等构成的透明导电膜作为液晶显示器、太阳能电池的透明电极被广泛使用。这些透明导电膜通常利用溅射法生成。
此外,作为溅射法以外的方法,例如专利文献1中公开了利用金属氧化膜的成膜装置进行金属氧化膜的成膜,“该成膜装置的特征在于,其具备加入有含有金属的材料溶液(10)的第一容器(5A)、加入有过氧化氢的第二容器(5B,18)、配置基板(2)且具有加热所述基板的加热器(3)的反应容器(1)、连接所述第一容器与所述反应容器,将所述材料溶液从所述第一容器供给至所述反应容器的第一路径(L1)、连接所述第二容器与所述反应容器,将所述过氧化氢从所述第二容器供给至所述反应容器的第二路径(L2)”。在专利文献1中记载的成膜装置中,使含有金属的材料溶液与过氧化氢在加热后的基板上反应,进行金属氧化膜的成膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2011/151889号
发明内容
发明要解决的课题
本发明目的在于提供一种代替上述现有技术的新方法作为得到薄膜的技术。
用于解决课题的手段
本发明方式是为了实现上述目的而完成的,本发明的薄膜的制造方法的特征在于,其具有使含有微粒的分散液雾化的雾化工序;将经雾化的分散液供给至基板的供给工序;使供给至所述基板上的所述分散液干燥的干燥工序。
此外,本发明方式的薄膜的制造方法的特征还在于,所述经雾化的分散液中所含有的微粒的粒径为100nm以下。
此外,特征还在于本发明方式的薄膜的制造方法中的所述基板含有树脂,具有可挠性。
此外,特征还在于本发明方式的薄膜的制造方法中的所述干燥工序在低于所述基板的软化点的温度下进行。
此外,特征还在于本发明方式的薄膜的制造方法中的所述干燥工序在10℃以上40℃以下的温度下进行。
此外,本发明方式的薄膜的制造方法的特征还在于,其具备在所述基板上形成由亲水部与斥水部构成的图案的亲斥水图案形成工序,对利用所述亲斥水图案形成工序形成有所述亲斥水图案的基板进行所述供给工序。
此外,本发明方式的薄膜的制造方法的特征还在于,在所述干燥工序之后,具备对所述基板照射紫外线的紫外线照射工序,对经所述紫外线照射工序照射紫外线的所述基板再次进行供给工序。
此外,本发明方式的薄膜的制造方法的特征还在于,在所述供给工序中,所述紫外线照射工序前供给的所述雾中所含的所述微粒与所述紫外线照射工序后供给的所述雾中所含的所述微粒不同。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910312665.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。