[发明专利]一种化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置

权利要求书

1.一种化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置，其特征在于：其包括固定支架（1）、旋转喷头（2）、电源模块（3）、高压水管（4）、高压气管（5）、超声波发射器（8）及超声波信号线（9），所述固定支架（1）中设置有伸缩机构（6）、气管水管旋转收集装置（7），所述伸缩机构（6）位于所述气管水管旋转收集装置（7）的下方，所述旋转喷头（2）设置在所述伸缩机构（6）的下端，所述高压水管（4）的上端、所述高压气管（5）的上端及所述超声波信号线（9）的上端均配合设置在所述气管水管旋转收集装置（7）上，所述高压水管（4）及所述高压气管（5）均设置在所述伸缩机构（6）的外壁上，所述高压水管（4）的下端及所述高压气管（5）的下端连接在所述旋转喷头（2）上，所述超声波信号线（9）的下端连接在所述超声波发射器（8）上，所述旋转喷头（2）、所述超声波发射器（8）、所述超声波信号线（9）及所述伸缩机构（6）均与所述电源模块（3）电连接。

2.根据权利要求1所述的一种化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置，其特征在于：所述伸缩机构（6）包括伸缩气缸（61）及伸缩复位结构（62），所述伸缩复位结构（62）中配合设置有复位弹簧（63），所述伸缩复位结构（62）的下端固定配合有喷头支架（64），所述伸缩复位结构（62）套接在所述伸缩气缸（61）上，所述伸缩气缸（61）的下端与所述喷头支架（64）的下端相固定配合，所述旋转喷头（2）及所述超声波发射器（8）均设置在所述喷头支架（64）的下端。

3.根据权利要求1所述的一种化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置，其特征在于：所述气管水管旋转收集装置（7）包括旋转电机（71）、联轴器（72）及空心卷轴（73），所述空心卷轴（73）设置在所述固定支架（1）上，所述联轴器（72）的一端配合设置在所述固定支架（1）上，所述联轴器（72）的另一端配合设置在所述旋转电机（71）上，所述空心卷轴（73）上转动配合有水管卷盘（74）及气管卷盘（75），所述高压水管（4）配合设置在所述水管卷盘（74）上，所述高压气管（5）配合设置在所述气管卷盘（75）上。

4.根据权利要求3所述的一种化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置，其特征在于：所述空心卷轴（73）上还转动配合有信号线卷盘（76），所述超声波信号线（9）配合设置在所述信号线卷盘（76）上。

5.根据权利要求1所述的一种化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置，其特征在于：所述电源模块（3）设置在电气控制箱（10）中，所述电气控制箱（10）中还设置有中间继电器（13）、电磁阀、智能控制仪器（12）及高度设定控制仪（16），所述电气控制箱（10）上设置有触摸屏（15），所述触摸屏（15）、所述中间继电器（13）、所述电磁阀、所述智能控制仪器（12）及所述高度设定控制仪（16）均与所述电源模块（3）电连接。

6.根据权利要求1所述的一种化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置，其特征在于：所述旋转喷头（2）为6D旋转喷头。

7.根据权利要求2所述的一种化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置，其特征在于：所述伸缩复位结构（62）与所述固定支架（1）之间设置有若干个耐磨环（11）。