[发明专利]一种化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置

说明书

本发明公开了一种化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置，旨在提供一种使用方便及能够全自动清洗的化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置。本发明包括固定支架、电源模块、高压水管、高压气管、超声波发射器及超声波信号线，固定支架中设置有伸缩机构、气管水管旋转收集装置，伸缩机构位于气管水管旋转收集装置的下方，旋转喷头设置在伸缩机构的下端，高压水管、高压气管及超声波信号线的上端均配合设置在气管水管旋转收集装置上，高压水管及高压气管的下端连接在旋转喷头上，超声波信号线的下端连接在超声波发射器上。本发明应用于反应釜清洗装置的技术领域。

技术领域

本发明涉及一种化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置。

背景技术

化学工业作为我国国民经济的基础产业之一，经过五十多年的发展，已经覆盖了有机化学原料、无机化学原料、树脂、化学纤维、添加剂、日用化学品、染料、涂料、肥料、农料、塑料及制品、玻璃及制品、水泥等领域，与人类生活资源密切相关。从整体上来说，化工行业的特点是对生产原料伴有化学、物理、相变等反应、变化过程的连续加工。和离散的制造业相比，化工企业具有以下特殊性：装置系统性强、工艺参数变化多、物料变化复杂 、生产形式复杂等。

作为化工行业、日化行业的主要生产设备，反应釜、调和釜、储存罐的结构特点存在国内大部分企业还是采用人工进入化学反应釜内对结垢物进行清除的方法，化学反应釜清洗通常是在化学反应釜内搭设脚手架或向反应釜内充水，用刮刀、铲子等来清除附着的污垢。但是为了提高产品质量及更加安全地进行生产，清洗方式已逐步由手动清洗向自动清洗转变。因此目前需要研发出一种使用方便及能够全自动清洗的化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供了一种使用方便及能够全自动清洗的化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置，本发明用于反应釜的全自动清洗，这套化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置是在反应釜上球面上的入孔处设置自动圆弧型入孔和配套的外盖，化学反应釜智能全自动清洁高压射流6D装置固定在它的上方，当反应结束后，自动圆弧装置的外盖打开，旋转喷头向下伸入反应釜，到达设定位置后喷涂高射流水，根据事先设置好的程序进行自动清洗。

本发明所采用的技术方案是：本发明包括固定支架、旋转喷头、电源模块、高压水管、高压气管、超声波发射器及超声波信号线，所述固定支架中设置有伸缩机构、气管水管旋转收集装置，所述伸缩机构位于所述气管水管旋转收集装置的下方，所述旋转喷头设置在所述伸缩机构的下端，所述高压水管的上端、所述高压气管的上端及所述超声波信号线的上端均配合设置在所述气管水管旋转收集装置上，所述高压水管及所述高压气管均设置在所述伸缩机构的外壁上，所述高压水管的下端及所述高压气管的下端连接在所述旋转喷头上，所述超声波信号线的下端连接在所述超声波发射器上，所述旋转喷头、所述超声波发射器、所述超声波信号线及所述伸缩机构均与所述电源模块电连接。

进一步，所述伸缩机构包括伸缩气缸及伸缩复位结构，所述伸缩复位结构中配合设置有复位弹簧，所述伸缩复位结构的下端固定配合有喷头支架，所述伸缩复位结构套接在所述伸缩气缸上，所述伸缩气缸的下端与所述喷头支架的下端相固定配合，所述旋转喷头及所述超声波发射器均设置在所述喷头支架的下端。

进一步，所述气管水管旋转收集装置包括旋转电机、联轴器及空心卷轴，所述空心卷轴设置在所述固定支架上，所述联轴器的一端配合设置在所述固定支架上，所述联轴器的另一端配合设置在所述旋转电机上，所述空心卷轴上转动配合有水管卷盘及气管卷盘，所述高压水管配合设置在所述水管卷盘上，所述高压气管配合设置在所述气管卷盘上。

进一步，所述空心卷轴上还转动配合有信号线卷盘，所述超声波信号线配合设置在所述信号线卷盘上。