[发明专利]静电放电防护元件在审
申请号: | 201910317056.2 | 申请日: | 2019-04-19 |
公开(公告)号: | CN111816651A | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | 洪慈忆 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 放电 防护 元件 | ||
1.一种静电放电防护元件,包括:
衬底,具有第一区与第二区,所述第二区环绕所述第一区,所述衬底具有第一导电型;
高压N阱区,具有第二导电型且配置于所述衬底上;以及
高压P阱区,具有所述第一导电型且配置于所述高压N阱区上;
其中所述第一区配置于所述高压N阱区上,包括:
第一掺杂区,具有所述第一导电型;
第二掺杂区,具有所述第二导电型且环绕所述第一掺杂区;以及
第三掺杂区,具有所述第一导电型且环绕所述第二掺杂区,
其中所述第二区配置于所述高压P阱区上,包括:
多个第四掺杂区,具有所述第二导电型,所述多个第四掺杂区间隔排列并环绕所述第一区;以及
第五掺杂区,具有所述第一导电型,所述第五掺杂区环绕所述第一区与所述多个第四掺杂区中的每一个。
2.根据权利要求1所述的静电放电防护元件,其中所述多个第四掺杂区具有相同尺寸。
3.根据权利要求1所述的静电放电防护元件,其中所述多个第四掺杂区在相同排列方向上的间隔距离相同。
4.根据权利要求1所述的静电放电防护元件,其中所述第一掺杂区、所述第二掺杂区与所述第三掺杂区电性连接至电源正极,所述第四掺杂区与所述第五掺杂区电性连接至电源负极。
5.根据权利要求1所述的静电放电防护元件,更包括:
场氧化区,配置在所述第三掺杂区与所述第五掺杂区之间;以及
多晶硅区,配置在所述场氧化区上,所述多晶硅区电性连接至电源正极。
6.根据权利要求5所述的静电放电防护元件,其中所述多晶硅区是单多晶硅或双多晶硅。
7.根据权利要求1所述的静电放电防护元件,其中所述衬底是P型硅衬底或P型外延层。
8.根据权利要求1所述的静电放电防护元件,其中所述高压N阱区是N型外延层、单个N型埋层或多个N型埋层,且所述高压P阱区是P型阱、P型埋层或P型低掺杂区。
9.根据权利要求1所述的静电放电防护元件,其中所述第一导电型与所述第二导电型的电性相反。
10.根据权利要求1所述的静电放电防护元件,其中所述第一掺杂区、所述第二掺杂区、所述第三掺杂区、所述第四掺杂区与所述第五掺杂区的掺杂浓度高于所述衬底、所述高压N阱区与所述高压P阱区的掺杂浓度。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的