[发明专利]用于半导体工艺的基板传送机构及成膜系统

权利要求书

1.一种用于半导体工艺的基板传送机构，其特征在于，包含：

一后臂；

多个前臂，设于该后臂上，并分别相对于该后臂有靠近或远离的运动，该多个前臂分别设于该后臂的相对的两表面上，并能于该后臂的长度方向上向外伸展或向内重叠；以及

多个取放部，各该取放部是用于取放一基板，及固定于对应的多个前臂；

还包含一基部、一支撑部，该基部与该支撑部连接，并驱动该支撑部相对有上升或下降的运动。

2.根据权利要求1所述的用于半导体工艺的基板传送机构，其特征在于，该多个取放部是静电吸盘。

3.根据权利要求1所述的用于半导体工艺的基板传送机构，其特征在于，还包含一固定臂，该后臂设于该固定臂上，并分别相对于该固定臂有靠近或远离的运动。

4.根据权利要求3所述的用于半导体工艺的基板传送机构，其特征在于，该支撑部与该固定臂连接，并驱动该固定臂旋转。

5.一种用于半导体工艺的成膜系统，其特征在于，包含：

一反应腔，包括多个基板保持构件；以及

一基板传送机构，包括：

一后臂；

多个前臂，设于该后臂上，并分别相对于该后臂有靠近或远离的运动，该多个前臂分别设于该后臂的相对的两表面上，并能于该后臂的长度方向上向外伸展或向内重叠；及

多个取放部，各该取放部用于取放一基板至各该基板保持构件，并固定于对应的该多个前臂，该多个取放部分别吸取一个基板，并分别将基板放置于对应的基板保持构件上；

还包含一基部、一支撑部，该基部与该支撑部连接，并驱动该支撑部相对有上升或下降的运动。

6.一种用于半导体工艺的成膜系统，其特征在于，包含：

一反应腔，包括多个基板保持构件；以及

一基板传送机构，包括：

一后臂；

多个前臂，设于该后臂上，并分别相对于该后臂有靠近或远离的运动，该多个前臂分别设于该后臂的相对的两表面上，并能于该后臂的长度方向上向外伸展或向内重叠；及

多个取放部，各该取放部用于取放一基板至各该基板保持构件，并固定于对应的该多个前臂，当该多个取放部中一个自一该基板保持构件吸取一基板，该多个取放部中另一个已吸取另一基板，然后将该另一基板放置于刚卸载的该基板保持构件上；

还包含一基部、一支撑部，该基部与该支撑部连接，并驱动该支撑部相对有上升或下降的运动。

7.根据权利要求5或6所述的用于半导体工艺的成膜系统，其特征在于，还包含一摄影机，当该多个取放部中一个放置一基板至该多个基板保持构件中一个，该摄影机摄取该基板与该基板保持构件的影像，通过判断该影像中两者的相对位置以调整该取放部的位置。

8.根据权利要求5或6所述的用于半导体工艺的成膜系统，其特征在于，该多个取放部是静电吸盘。

9.根据权利要求5或6所述的用于半导体工艺的成膜系统，其特征在于，该多个前臂分别设于该后臂的相对的两表面上，并能于该后臂的长度方向上向外伸展或向内重叠。

10.根据权利要求5或6所述的用于半导体工艺的成膜系统，其特征在于，该基板传送机构还包含一固定臂，该后臂设于该固定臂上，并分别相对于该固定臂有靠近或远离的运动。

11.根据权利要求10所述的用于半导体工艺的成膜系统，其特征在于，该基板传送机构还包含一支撑部，该支撑部与该固定臂连接，并驱动该固定臂旋转。

12.根据权利要求11所述的用于半导体工艺的成膜系统，其特征在于，该基板传送机构还包含一基部，该基部与该支撑部连接，并驱动该支撑部相对有上升或下降的运动。