[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃及其制备工艺

说明书

本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃以及制备工艺，属于节能与新能源用材料制备技术领域，包括玻璃基片以及由玻璃基片向外依次设置的第一层金属锡、第二层金属锌、第三层金属银、第四层金属钛、第五层金属锌、第六层金属锡和第七层金属锡。本发明所述的低辐射镀膜玻璃，通过设置合理的生产工序步骤，使得生产的低辐射镀膜玻璃达到反射率的要求，使得低辐射镀膜玻璃具有良好的外观颜色，在相同可见光透过率的情况下，通透性更强，并且具有良好的光学、热血性能，能满足和提升现有市场对低辐射镀膜玻璃的要求；设置的工艺过程合理，能够保证生产产品品质的同时，提高生产效率。

技术领域

本发明属于节能与新能源用材料制备技术领域，特别涉及一种低辐射镀膜玻璃。本发明还涉及一种低辐射镀膜玻璃的制备工艺。

背景技术

镀膜玻璃(Reflectiveglass)也称反射玻璃，是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等。

低辐射玻璃是在玻璃表面镀多层银、铜或锡等金属或其化合物组成的薄膜系，产品对可见光有较高的透射率，对红外线有很高的反射率，具有良好的隔热性能，主要用于建筑和汽车、船舶等交通工具，由于膜层强度较差，一般都制成中空玻璃使用。可见光反射率达到25%以上低辐射镀膜玻璃，在建筑幕墙上应用比较普遍，但是这类产品生产有一定难度。

发明内容

发明目的：为了克服以上不足，本发明的目的是提供一种低辐射镀膜玻璃，通过在玻璃表面采用溅射工艺形成合理的镀层分布，提高了玻璃的反射率、耐磨、隔音等性能。本发明还提供一种低辐射镀膜玻璃的制备工艺，工作原理简单易行，产品质量明显提高，并且提高了生产效率，适合工业大规模应用。

技术方案：一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片、第一层金属锡、第二层金属锌、第三层金属银、第四层金属钛、第五层金属锌、第六层金属锡和第七层金属锡，所述第一层金属锡、第二层金属锌、第三层金属银、第四层金属钛、第五层金属锌、第六层金属锡和第七层金属锡自玻璃基片向外依次设置，所述玻璃基片为6MM厚的白玻璃。

本发明还提供一种低辐射镀膜玻璃的制备工艺，包括以下步骤：

1）选择玻璃基片，将玻璃基片裁切为规定尺寸，放置在输送带上，随着输送带的运送玻璃基片进入清洗室，采用清洗机将玻璃基片清洗干净；

2）清洗干净的玻璃基片随着输送带的运送，进入真空干燥箱中进行干燥；

3）干燥后的玻璃，随着输送带的输送进行1#镀膜室，采用旋转阴极在玻璃基片上溅射第一层金属锡，真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.3~4.5KW；

4）在1#镀膜室内，步骤3）中的镀膜完成的玻璃基片，采用旋转阴极溅射第二层金属锌，真空磁控溅射镀膜设备的功率为2.0~2.5KW；

5）步骤4）中第二层金属锌镀膜完成，输送带启动，将玻璃基片输送至2#镀膜室，采用平面阴极溅射第三层金属银，真空磁控溅射镀膜设备的功率为22.0~22.2KW；

6）在2#镀膜室内，步骤5）中镀膜完成的玻璃基片，采用平面阴极溅射第四层金属钛，真空磁控溅射镀膜设备的功率为76.0~76.5KW；

7）步骤6）中第四层金属钛镀膜完成，输送带启动，将玻璃基片输送至3#镀膜室，采用旋转阴极溅射第五层金属锌，真空磁控溅射镀膜设备的功率为7.9~8.1KW；

8）在3#镀膜室内，步骤7）镀膜完成的玻璃基片，采用旋转阴极溅射第六层金属锡，真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.9~5.1KW；

9）在3#镀膜室内，步骤8）镀膜完成的玻璃基片，采用旋转阴极溅射第七层金属锡，真空磁控溅射镀膜设备的功率为9.9~10.1KW；