[发明专利]在腔体检查缺陷的系统及其方法在审

专利信息
申请号: 201910321869.9 申请日: 2019-04-22
公开(公告)号: CN110530870A 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 李淳钟;李东锡;洪载和;申河荣;李镕式 申请(专利权)人: 塞米西斯科株式会社
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88
代理公司: 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 延美花;臧建明<国际申请>=<国际公布>
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 检查对象物 缺陷检查系统 摄像头 腔体内部 光源部 腔体外部 移送部件 真空状态 检查 拍摄 非接触 非破坏 密闭 腔体 照射 检测 配置
【权利要求书】:

1.一种缺陷检查系统,是检查对象物缺陷检查系统,其特征在于,包括:

光源部;及

摄像头,其利用所述光源部照射的光在配置有检查对象物的移送部件的上部拍摄所述检查对象物以检查出所述检查对象物有无缺陷,

其中,所述摄像头在腔体内部及腔体外部中至少一个拍摄所述检查对象物。

2.根据权利要求1所述的缺陷检查系统,其特征在于,还包括:

非反射部件,其位于所述腔体的内部且位于所述移送部件的下部,面向所述光源部配置吸收所述光源部照射后透过了所述检查对象物的光。

3.根据权利要求2所述的缺陷检查系统,其特征在于:

所述腔体的一面形成有观察窗口,

所述光源部通过所述观察窗口向所述检查对象物的上部照射光,

所述摄像头利用向所述检查对象物的上部照射后被所述检查对象物反射的光拍摄所述检查对象物以检查出边缘有无缺陷。

4.根据权利要求1所述的缺陷检查系统,其特征在于,还包括:

反射部件,其位于所述腔体的内部且面向所述光源部配置于所述移送部件的下部,反射所述光源部照射后透过了所述检查对象物的光。

5.根据权利要求1所述的缺陷检查系统,其特征在于:

所述光源部配置于所述腔体的内部且面向所述摄像头,在所述移送部件的上部及所述移送部件的下部中至少一个向所述检查对象物照射光。

6.根据权利要求1所述的缺陷检查系统,其特征在于:

所述腔体的上端形成有第一观察窗口,所述腔体的下端形成有第二观察窗口,

所述光源部通过所述第二观察窗口在移送部件的下部向上部照射光,

所述摄像头通过所述第一观察窗口利用所述光源部照射后透过了所述检查对象物的光拍摄所述检查对象物以检查出边缘有无缺陷。

7.根据权利要求6所述的缺陷检查系统,其特征在于:

所述第一观察窗口与所述第二观察窗口形成为彼此面对面且形成于同一垂直线上的位置。

8.根据权利要求1所述的缺陷检查系统,其特征在于:

所述腔体为移送腔体,

所述光源部及所述摄像头在所述腔体密闭的真空状态工作。

9.根据权利要求1所述的缺陷检查系统,其特征在于:

有多个所述光源部及所述摄像头,

所述光源部与所述摄像头的个数等于形成于所述移送部件的支撑部件的个数,

各光源部与摄像头配置成与所述支撑部件的位置相一致。

10.一种缺陷检查系统,是检查对象物缺陷检查系统,其特征在于,包括:

第一光源部;

第二光源部;

摄像头,其利用所述第一光源部及所述第二光源部照射的光在配置有检查对象物的移送部件的上部拍摄所述检查对象物以检查出所述检查对象物有无缺陷,

所述摄像头在腔体的内部或外部拍摄所述检查对象物。

11.根据权利要求10所述的缺陷检查系统,其特征在于:

所述第一光源部位于观察窗口的上部,通过所述观察窗口向所述检查对象物照射光,

所述第二光源部配置在所述腔体的内部且位于移送部件的下部,面向所述观察窗口(view port),在所述移送部件的下部向上部照射光。

12.根据权利要求10所述的缺陷检查系统,其特征在于:

所述腔体的上端形成有第一观察窗口,所述腔体的下端形成有第二观察窗口,

所述第一光源部位于所述第一观察窗口的上部且通过所述第一观察窗口向所述检查对象物照射光,

所述第二光源部位于所述第二观察窗口的下部,通过所述第二观察窗口向所述检查对象物照射光。

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