[发明专利]一种TFT-LCD玻璃基板的研磨抛光方法

说明书

本发明涉及一种TFT‑LCD玻璃基板的研磨抛光方法，包括现有粗磨、细磨步骤，其特征在于包括以下步骤：1）.第一阶段采用研磨机粗磨，磨削量为15‑20μm，粗造度控制在0.15μm以内；2）.第二阶段采用研磨机细磨，磨削量为5‑10μm，粗造度控制在0.1μm以内；3）.第三阶段采用研磨机研磨抛光，研磨磨盘和磨盘轴承为铁材质，研磨垫材质为仿麂皮类型，使上盘频率为50‑60赫兹、下盘频率为20‑30赫兹，研磨时间为5‑10分钟，磨削量为5‑10μm，粗造度控制在0.01μm以内。本发明优点：（1）可根据工艺要求更合理调节转速，提高了研磨精度和研磨效率；（2）抛光机受温度影响小，转盘工作稳定，大大提高了研磨精度；（3）减少了欠研磨，产品质量得到提升。

技术领域

本发明属玻璃制备领域，涉及TFT-LCD玻璃制备领域，具体涉及一种TFT-LCD玻璃基板的研磨抛光方法。

背景技术

在浮法玻璃成型过程中，锡槽温度不均匀（影响锡槽温度变化的因素很多）会导致玻璃液黏度出现差异，影响液流流动，会使玻璃液流产生运动速差，拉伸不均会使表面产生波纹（影响超薄玻璃产品质量的一个主要因素）。

现有浮法生产的TFT-LCD玻璃基板先通过三次研磨抛光（粗磨、细磨、精磨）后玻璃基板表面仍存有0.1-0.5μm的粗糙度和大于0.15μm/20mm的波纹度（波纹度要求小于0.15μm/20mm），这一定程度上影响了玻璃产品的质量。

发明内容

本发明的目的是为了除去现有浮法TFT-LCD玻璃基板经过三次研磨抛光后仍存有0.1-0.5μm粗糙度和大于0.15μm/20mm的波纹度，提供了一种TFT-LCD玻璃基板的研磨抛光方法。

为了实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：

一种TFT-LCD玻璃基板的研磨抛光方法，包括现有粗磨、细磨步骤，其特征在于包括以下步骤：

1）.第一阶段为粗磨，浮法生产的TFT-LCD玻璃基板（渗锡层为20-40μm、表面粗糙度为5μm以内）先采用研磨机（研磨磨盘和磨盘轴承为铁材质，研磨垫材质为聚氨酯发泡材质、研磨液为抛光粉）进行粗磨，磨削量为15-20μm，使玻璃的粗造度控制在0.1μm以内；

2）.第二阶段采用研磨机（研磨磨盘和磨盘轴承为铁材质，研磨垫材质为聚氨酯发泡材质、研磨液为抛光粉）进行细磨，磨削量为5-10μm，使玻璃的粗造度控制在0.1μm以内；

3）.第三阶段采用研磨机（研磨磨盘和磨盘轴承为铁材质，研磨垫材质为仿麂皮类型、研磨液为抛光粉）进行为抛光，使上盘频率为50-60赫兹、下盘频率为20-30赫兹，研磨时间为5-10分钟，修复玻璃基板凸凹峰值处、修复玻璃基板平整度、波纹度，磨削量为5-10μm，使玻璃的粗造度控制在0.01μm以内。

进一步，所述抛光粉中稀土含量95.2wt%、氧化铈含量63.1wt%、氟含量5.6wt%。（由市场购买得来）

本发明的优点：（1）通过设于研磨轮上面的磨头旋转传动机构，能使工件主动旋转，且转速可以调节，并可根据工艺要求更合理的调节转速，从而提高了玻璃基板的研磨精度和研磨效率；（2）由于抛光机受温度影响小，转盘工作稳定，因此大大提高了产品的研磨精度；（3） 研磨方法的特点是减少了欠研磨，产品质量得到了提升。

附图说明

图1是从X轴到Y轴的直线研磨图；

图2是从Y轴直返回X轴的直线研磨图。

具体实施方式

结合图1、2，对本发明作进一步说明，一种TFT-LCD玻璃基板的研磨抛光方法，具体实施步骤如下：

实施例1