[发明专利]像素界定层及其制作方法、阵列基板、显示面板和装置

权利要求书

1.一种像素界定层，其特征在于，包括位于衬底上，设置有至少一凸起结构的界定膜层；

所述凸起结构位于所述界定膜层远离所述衬底的一面，且所述凸起结构具有疏液性；所述凸起结构包括至少一纳米颗粒，所述纳米颗粒的直径为20纳米到200纳米；所述纳米颗粒为磁性颗粒，或为带电颗粒；

所述凸起结构的高度是100纳米到800纳米，所述凸起结构的形状为圆锥形。

2.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，所述纳米颗粒的直径为20纳米到200纳米。

3.根据权利要求1-2任一项所述的像素界定层，其特征在于，所述纳米颗粒的材料包括四氧化三铁、三氧化二铁、氧化亚铁中的任一种或多种。

4.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，当所述界定膜层设置有至少两个所述凸起结构时，相邻两所述凸起结构之间的距离是50纳米到800纳米。

5.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，所述界定膜层的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、氟化聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺中的任一种或多种。

6.一种阵列基板，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的像素界定层。

7.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求6所述的阵列基板。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求7所述的显示面板。

9.一种像素界定层的制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底，在所述衬底上涂布一层光刻胶，所述光刻胶中含有纳米颗粒，所述纳米颗粒的直径为20纳米到200纳米；所述纳米颗粒为磁性颗粒，或为带电颗粒；

对所述光刻胶进行前烘处理；

对前烘处理后的光刻胶施加外部作用力，使得所述光刻胶形成远离所述衬底的至少一凸起结构，所述凸起结构具有疏液性，所述凸起结构的高度是100纳米到800纳米，所述凸起结构的形状为圆锥形；

对形成所述至少一凸起结构的光刻胶进行构图工艺，形成像素界定层。

10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，

所述纳米颗粒在所述光刻胶中的浓度为0.2wt％到5wt％。

11.根据权利要求10所述的制作方法，其特征在于，

所述对前烘处理后的光刻胶施加外部作用力，使得所述光刻胶形成远离所述衬底的至少一凸起结构，包括：

将涂布有所述光刻胶的衬底置于外部磁场或电场中，以使所述纳米颗粒向远离所述衬底的方向运动，使得所述光刻胶形成远离所述衬底的至少一凸起结构。