[发明专利]像素界定层及其制作方法、阵列基板、显示面板和装置

说明书

本申请提供了一种像素界定层及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置，用以提供一种新的具有疏液性的像素界定层。像素界定层，包括位于衬底上，设置有至少一凸起结构的界定膜层；凸起结构位于界定膜层远离衬底的一面，且凸起结构具有疏液性。由于像素界定层，包括位于衬底上，设置有至少一凸起结构的界定膜层，该界定膜层设置有至少一凸起结构，凸起结构远离衬底设置，且具有疏液性，因此，界定膜层在凸起结构的作用下也具有疏液能力，能够很好的将喷墨打印过程中的墨水限定在像素内。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种像素界定层及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置。

背景技术

有机电致发光器件(Organic Light Emitting Diode，OLED)相对于液晶显示器件(Liquid Crystal Display，LCD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。

发明内容

本申请的目的旨在提供一种像素界定层及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置，用以提供一种新的具有疏液性的像素界定层。

为了实现上述目的，本申请提供以下技术方案：

第一方面，提供一种像素界定层，包括位于衬底上，设置有至少一凸起结构的界定膜层；

凸起结构位于界定膜层远离衬底的一面，且凸起结构具有疏液性。

可选地，凸起结构包括至少一纳米颗粒。

可选地，纳米颗粒为磁性颗粒，或为带电颗粒。

可选地，纳米颗粒的直径为20纳米到200纳米。

可选地，纳米颗粒的材料包括四氧化三铁、三氧化二铁、氧化亚铁中的任一种或多种。

可选地，凸起结构的高度是100纳米到800纳米。

可选地，当界定膜层设置有至少两个凸起结构时，相邻两凸起结构之间的距离是50纳米到800纳米。

可选地，界定膜层的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、氟化聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺中的任一种或多种。

第二方面，提供一种阵列基板，包括第一方面提供的像素界定层。

第三方面，提供一种显示面板，包括第二方面提供的阵列基板。

第四方面，提供一种显示装置，包括第三方面提供的显示面板。

第五方面，提供一种像素界定层的制作方法，包括：

提供一衬底，在衬底上设置一膜层；

对膜层施加外部作用力，使得膜层形成远离衬底的至少一凸起结构，凸起结构具有疏液性；

对形成至少一凸起结构的膜层进行构图工艺，形成像素界定层。

可选地，在衬底上设置一膜层，包括：

在衬底上涂布一层光刻胶，光刻胶中含有纳米颗粒，纳米颗粒在光刻胶中的浓度为0.2wt％到5wt％。

可选地，对膜层施加外部作用力之前，还包括：

对光刻胶进行前烘处理。

可选地，纳米颗粒为磁性颗粒，或为带电颗粒；

对膜层施加外部作用力，使得膜层形成远离衬底的至少一凸起结构，包括：

将涂布有光刻胶的衬底置于外部磁场或电场中，以使纳米颗粒向远离衬底的方向运动，使得光刻胶形成远离衬底的至少一凸起结构。

相比于现有技术，本申请的方案具有以下有益效果：