[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：

一衬底；

形成于所述衬底上的遮光导电层；

覆盖所述衬底和所述遮光导电层的缓冲层；

形成于所述缓冲层上的沟道层，所述沟道层包括多个阵列排布的叉指半导体构件，每个所述叉指半导体构件具有位于同行的两个沟道，每个所述叉指半导体构件具有一个源极接触区和一个漏极接触区；

覆盖所述缓冲层和所述沟道层的第一绝缘层；

形成于所述第一绝缘层上且位于所述遮光导电层正上方的多条直线型的栅极扫描线；

其中，多条所述栅极扫描线和所述遮光导电层电性连接，所述遮光导电层包括多条直线型的遮光导电线，每条所述遮光导电线与每条所述栅极扫描线一对一地通过贯穿所述缓冲层和所述第一绝缘层的至少两个过孔电性连接，每条所述栅极扫描线在所述衬底上的正投影和对应与所述栅极扫描线电性连接的每条所述遮光导电线在所述衬底上的正投影重合，每条所述栅极扫描线的宽度和与所述栅极扫描线电性连接的每条所述遮光导电线的宽度相等。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述过孔沿第一方向的尺寸大于所述栅极扫描线的宽度，所述第一方向为垂直于所述栅极扫描线的方向。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述沟道层包括多个阵列排布的叉指半导体构件，每个所述叉指半导体构件相对的两侧均分别设置有至少一所述过孔。

4.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括如下步骤：

提供一衬底；

于所述衬底上形成遮光导电层；

形成覆盖所述衬底和所述遮光导电层的缓冲层；

于所述缓冲层上形成沟道层，所述沟道层包括多个阵列排布的叉指半导体构件，每个所述叉指半导体构件具有位于同行的两个沟道；

形成覆盖所述缓冲层和所述沟道层的第一绝缘层；

于所述第一绝缘层上形成多个直线型的栅极扫描线，多条所述栅极扫描线位于所述遮光导电层的正上方；

其中，所述栅极扫描线和所述遮光导电层电性连接，所述遮光导电层包括多条直线型的遮光导电线，每条所述遮光导电线与每条所述栅极扫描线一对一地通过贯穿所述缓冲层和所述第一绝缘层的至少两个过孔电性连接，每条所述栅极扫描线在所述衬底上的正投影和对应与所述栅极扫描线电性连接的每条所述遮光导电线在所述衬底上的正投影重合，每条所述栅极扫描线的宽度和与所述栅极扫描线电性连接的每条所述遮光导电线的宽度相等。

5.根据权利要求4所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述过孔沿第一方向的尺寸大于所述栅极扫描线的宽度，所述第一方向为垂直于所述栅极扫描线的方向。

6.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括权利要求1-3任一项所述的阵列基板。