[发明专利]一种低粘度牙膏用沉淀二氧化硅及其制备方法有效
| 申请号： | 201910341231.1 | 申请日： | 2019-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN110015667B | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 任振雪;黄真;林英光;高文颖;梁少彬 | 申请（专利权）人： | 广州市飞雪材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/193 | 分类号： | C01B33/193;C01B33/18;A61K8/25;A61Q11/00 |
| 代理公司： | 广州胜沃园专利代理有限公司 44416 | 代理人： | 张帅 |
| 地址： | 510663 广东省广州市黄埔区茅岗*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 牙膏 硅酸钠溶液 制备 沉淀二氧化硅 硫酸溶液 初产物 低粘度 二氧化硅制备 硫酸钠溶液 初始粘度 控制过程 牙膏粘度 应用效果 触变性 反应釜 假塑性 稀硫酸 终点pH 烘干 压滤 洗涤 破碎 | ||
1.一种低粘度牙膏用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、往反应釜中加入硫酸钠溶液10～13m3，搅拌升温至50～70℃，保温5～15min，然后加入硅酸钠溶液调节pH值至9～10；
S2、同时加入硅酸钠溶液6～9m3和硫酸溶液进行并流中和反应，控制过程pH值在9～10，硅酸钠溶液添加完毕后，继续添加硫酸溶液至终点pH值为3.5～4.5，搅拌10～30min，得到二氧化硅初产物；
S3、使用稀硫酸对二氧化硅初产物进行压滤洗涤，使滤饼洗涤水的电导率小于1000μS/cm、滤饼pH值为6.5～7.0，再经过烘干，最后破碎至10～15μm，制得低粘度牙膏用沉淀二氧化硅；
所述稀硫酸的pH值为5.5～6.5。
2.根据权利要求1所述低粘度牙膏用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述硫酸钠溶液的质量百分比浓度为3～7％。
3.根据权利要求1所述低粘度牙膏用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述硅酸钠溶液由模数为3.4～3.5的固体硅酸钠经高温液化后加水调制而成。
4.根据权利要求1所述低粘度牙膏用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述硅酸钠溶液的浓度为1.5～3.0mol/L。
5.根据权利要求1所述低粘度牙膏用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述硫酸溶液的浓度为6.0～8.0mol/L。
6.根据权利要求1所述低粘度牙膏用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中，硅酸钠溶液的流速为0.15～0.20m3/min，硫酸溶液的流速为0.03～0.05m3/min。
7.根据权利要求1所述低粘度牙膏用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述烘干的温度为500～600℃。
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