[发明专利]一种基于内存内计算的高低位合并电路结构有效

专利信息
申请号: 201910343992.0 申请日: 2019-04-26
公开(公告)号: CN110176264B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 蔺智挺;谢军;彭春雨;吴秀龙;黎轩;陈崇貌;欧阳春;黎力;阮兵芹;方雅祺 申请(专利权)人: 安徽大学
主分类号: G11C11/418 分类号: G11C11/418;G11C11/419;G11C11/412
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人: 郑立明;陈亮
地址: 230601 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 内存 计算 低位 合并 电路 结构
【权利要求书】:

1.一种基于内存内计算的高低位合并电路结构,其特征在于,所述电路结构包括整体时序控制模块、行地址译码模块、列地址译码模块、SRAM存储阵列、字线驱动模块和输出模块,其中:

所述整体时序控制模块分别与所述行地址译码模块、列地址译码模块、字线驱动模块和输出模块连接;

所述行地址译码模块与所述字线驱动模块相连;

所述字线驱动模块与所述SRAM存储阵列相连,且所述SRAM存储阵列又与所述列地址译码模块以及输出模块相连;

所述SRAM存储阵列由若干Block模块组成,所述Block模块由N行2列的SRAM单元和高低位合并的结构组成,且每列SRAM单元的位线分别与所述列地址译码模块以及输出模块相连,其中:

通过所述SRAM存储阵列将待处理数据存储到相邻的两列SRAM单元中,再一次性打开N行字线,然后将相邻两列上的位线电压降进行合并处理,从而一次性读出2N位的二进制数据;

具体来说,针对单元模块BlockN×2,在计算开始之前,在CELL0-CELL2N-1中存入二进制数据;

在预充阶段,开关SW1、SW2、SW3闭合,SW4、SW5断开,WL0-WLN-1为低电平,PRE信号为低电平,P0、P1、P2、P3导通,BL0、BLB0、BL1、BLB1预充到VDD,电容C1上端与C2上端被预充到VDD;

在低四位读取阶段,SW2、SW3闭合,SW1、SW4、SW5断开,运用脉冲宽度调制技术同时打开位线WL0-WLN-1,这样在C2上就能形成一个电压差,且这个电压差的大小与低位数据所对应的十进制数大小成比例;

低位数据进行1/16操作阶段时,SW2、SW5断开,SW3闭合,先闭合SW1,通过P1将BLB0和C1上端预充到VDD,再断开SW1,闭合SW4,这样C1、C2就并联起来了,断开SW4后C2上的电压差变成了原来的一半,重复以上操作可以使C2上的电压差变成原来电压差的1/16;高位读取阶段与低位读取阶段类似,SW1、SW3闭合,SW2、SW4、SW5断开,打开位线后就能在C1上就能形成一个电压差,且这个电压差的大小与高位数据所对应的十进制数大小成比例;

高低位合并阶段,SW1、SW2、SW4断开,将SW3断开后闭合SW5,这样C1、C2就串联起来了,最终在串联的电容上形成的电压差就是最终的结果。

2.根据权利要求1所述基于内存内计算的高低位合并电路结构,其特征在于,所述SRAM存储阵列中的存储单元为传统6管SRAM单元,具体包括:

四个NMOS晶体管和两个PMOS晶体管,四个NMOS晶体管分别记为N0~N3,两个PMOS晶体管分别记为P0~P1;

PMOS晶体管P0和NMOS晶体管N0构成一个反向器,PMOS晶体管P1和NMOS晶体管N1构成另一个反向器,两个反向器交叉耦合;

NMOS晶体管N2和NMOS晶体管N3作为传输管,其中:

NMOS晶体管N2的源极与位线BL相连,NMOS晶体管N2的栅极与字线WL相连,NMOS晶体管N2的漏极与存储节点Q相连;

NMOS晶体管N3的源极与位线BLB相连,NMOS晶体管N3的栅极与字线WL相连,NMOS晶体管N3的漏极与存储节点QB相连。

3.根据权利要求1所述基于内存内计算的高低位合并电路结构,其特征在于,在所述Block模块中,N行2列的SRAM单元分别记为CELL0-CELL2N-1,其中:

CELL0-CELLN-1的位线BL端连在BLM上,CELL0-CELLN-1的位线BLB端连接在BLBM上;

CELLN-CELL2N-1的位线BL端连在BLM+1上,CELLN-CELL2N-1的位线BLB端连在BLBM+1上;

CELL0-CELLN-1、CELLN-CELL2N-1的字线WL端与WL0-WLN-1相连;

然后BLM,BLBM,BLM+1,BLBM+1再接入高低位合并的结构中。

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