[发明专利]一种填充虚拟图案的方法在审
| 申请号： | 201910347352.7 | 申请日： | 2019-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN110110418A | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 曹云 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 虚拟图案 填充 单元格 填充区 虚拟 存储空间 | ||
1.一种填充虚拟图案的方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供一待填充虚拟图案的版图；
将所述待填充虚拟图案的版图虚拟划分为多个单元格待填充区；以及
根据GDS文件对所述单元格待填充区填充虚拟图案。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在每个所述GDS文件中，具有与其对应的所述单元格待填充区需要填充的所有虚拟图案。
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述单元格待填充区需要填充的虚拟图案包括有源区虚拟图案、多晶虚拟图案、第一金属虚拟图案、第二金属虚拟图案，第n金属虚拟图案；
其中，n≥1，且n为正整数。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，根据GDS文件对所述单元格待填充区填充虚拟图案包括：
建立GDS文件数据库，所述GDS文件包括虚拟图案的组合数为2n+2-1种；
根据每个所述单元格待填充区需要填充虚拟图案，从所述GDS文件数据库中将包括需要填充的虚拟图案的组合提取出来；以及
根据提取出来的所述组合对所述单元格待填充区填充虚拟图案。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述待填充虚拟图案的版图虚拟划分为面积相同的多个单元格待填充区。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，对每个所述单元格待填充区再虚拟划分为多个子单元格待填充区。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，在每个所述子单元格待填充区的面积相同，且至少部分所述子单元格待填充区需要填充的所有虚拟图案相同。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，相邻的所述单元格待填充区之间存在间隙。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，随着所述单元格待填充区的数量的增加，所述间隙的距离减小。
10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，根据GDS文件对与其对应的所述单元格待填充区填充虚拟图案之后，还包括：
根据GDS文件对所述间隙填充虚拟图案。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司，未经上海华虹宏力半导体制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910347352.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
