[发明专利]发光元件有效
申请号: | 201910348458.9 | 申请日: | 2019-04-28 |
公开(公告)号: | CN110416377B | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 陈鹏壬;邱于珊;林文祥;王士玮;欧震 | 申请(专利权)人: | 晶元光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/22 | 分类号: | H01L33/22;H01L33/12;H01L33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 元件 | ||
本发明公开一种发光元件,其包含:一基板结构,包含一基底部,其具有一表面以及多个凸出部,多个凸出部以二维阵列方式排列于基底部的表面上;以及一缓冲层,其覆盖于多个凸出部及表面上,其中,缓冲层包含氮化铝材料;以及Ⅲ‑Ⅴ族化合物半导体层,位于缓冲层上;其中,多个凸出部各包含第一部分以及位于第一部分上的第二部分,且第一部分一体成形于基底部;以及发光元件具有一(102)面的X‑射线绕射(XRD)的一半高宽数值,半高宽数值小于250arcsec。
技术领域
本发明涉及一种发光元件,尤其是涉及一种具有基板结构的发光元件。
背景技术
发光二极管被广泛地用于固态照明光源。相较于传统的白炽灯泡和荧光灯,发光二极管具有耗电量低以及寿命长等优点,因此发光二极管已逐渐取代传统光源,并且应用于各种领域,如交通号志、背光模块、路灯照明、医疗设备等。
发明内容
本发明提供一种发光元件,包含:一基板结构,包含一基底部,其具有一表面以及多个凸出部,多个凸出部以二维阵列方式排列于基底部的表面上;以及一缓冲层,其覆盖于多个凸出部及表面上,其中,缓冲层包含氮化铝材料;其中,多个凸出部各具有一不大于1.5μm的高度;以及其中,发光元件具有一(102)面的X-射线绕射(XRD)的一半高宽数值,半高宽数值小于250arcsec。
本发明提供一种发光元件,包含:一基板结构,包含一基底部,其具有一表面以及多个凸出部,多个凸出部以二维阵列方式排列于基底部的表面上;以及一缓冲层,其覆盖于多个凸出部及表面上,其中,缓冲层包含氮化铝材料;以及Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体层,位于缓冲层上;其中,多个凸出部各包含第一部分以及位于第一部分上的第二部分,且第一部分一体成形于基底部;以及发光元件具有一(102)面的X-射线绕射(XRD)的一半高宽数值,半高宽数值小于250arcsec。
一种发光元件的制法,包含以下步骤:提供一基板结构其包含一基底部其具有一表面、多个凸出部以一二维阵列方式排列于基底部的表面上;形成一氮化铝缓冲层于基底部的表面上且覆盖凸出部;其中,多个凸出部各具有一不大于1.5μm的高度;其中,发光元件具有一(102)之X-射线绕射(XRD)的半高宽值小于250arcsec。
本申请提供一种发光元件的制法,其包含以下步骤:提供一基底部,其中基底部具有一表面;实施一图案化步骤,该图案化步骤包含形成前驱层在基底部上,以及移除部分前驱层部以形成多个凸出部,其中多个凸出部以一二维阵列方式排列于基底部的表面上;形成一缓冲层于基底部上且覆盖些凸出部,其中,缓冲层包含氮化铝材料;以及形成Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体层于缓冲层上;其中,发光元件具有一(102)面的X-射线绕射(XRD)的一半高宽数值,半高宽数值小于250arcsec。
本申请提供一种一种发光元件的制法,其包含以下步骤:提供一基材,其中基材具有一上表面;实施一图案化步骤,以形成一基板结构,其包含基底部及多个凸出部,其中基底部包含一表面,多个凸出部以二维阵列方式排列于基底部的表面上;形成一缓冲层于基底部的表面上且覆盖些凸出部,其中,缓冲层包含氮化铝材料;其中,多个凸出部其中之一具有一不大于1.5μm的高度;其中,发光元件具有一(102)面的X-射线绕射(XRD)的一半高宽数值,半高宽数值小于250arcsec。
附图说明
图1A及图1B为本发明发光元件的一具体实施例的示意图;
图2A及图2B为本发明发光元件的一具体实施例的示意图;
图3A及图3B为本发明发光元件的一具体实施例的示意图;
图4A及图4B为俯视图,分别显示本发明发光元件基板结构不同态样的具体实施例;
图5A及图5B为剖视图,分别显示本发明发光元件凸出部不同态样的具体实施例。
符号说明
100、200、300 发光元件
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