[发明专利]1,2,5-噁二唑类衍生物、其制备方法及其在医药上的应用

权利要求书

1.式A所示的化合物或其立体异构体，或其药学上可接受的盐：

其中：

W是NH；

m为1；

R1为卤素；t为2；

M为SO₂，Y为NH；n为2或者3；

R2为氢。

2.如权利要求1所述的化合物或其立体异构体，或其药学上可接受的盐，其特征在于，所述化合物如式B所示：

各个基团定义同前。

3.如权利要求1所述的化合物或其立体异构体，或其药学上可接受的盐，其特征在于，所述立体异构体为光学异构体。

4.如权利要求1或2所述的化合物或其立体异构体，或其药学上可接受的盐，其特征在于，所述化合物选自下组：

5.一种药物组合物，其特征在于，包含如权利要求1所述的化合物或其立体异构体，或其药学上可接受的盐，和至少一种药学上可接受的载体。

6.如权利要求1所述的化合物或其立体异构体，或其药学上可接受的盐或如权利要求5所述的药物组合物的用途，其特征在于，

用于制备IDO抑制剂。

7.如权利要求1所述的化合物或其立体异构体，或其药学上可接受的盐或如权利要求5所述的药物组合物的用途，其特征在于，用于制备用于预防或治疗IDO相关疾病的药物；

所述的疾病选自下组：癌症、阿尔茨海默病、病毒感染、神经变性病症、创伤、器官移植排斥、自身免疫性疾病、抑郁症、焦虑症、白内障、心理障碍和艾滋病。

8.如权利要求1所述的化合物或其立体异构体，或其药学上可接受的盐的制备方法，其特征在于，包括步骤：在惰性溶剂中，将化合物A1和化合物A2进行反应，从而形成化合物A；

其中，n、m、M、Y、R1、R2和t定义同前；

W’为NH₂，G为CHO或者NO₂；W为NH。

9.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述方法包括步骤：

(a)在惰性溶剂中，将化合物A1’和化合物A2进行反应，从而形成化合物A3；

(b)在惰性溶剂中，将化合物A3进行脱保护反应，从而形成化合物A；

其中，Y’为N-氨基保护基，所述氨基保护基选自下组：对甲氧基苯基、苄基、叔丁氧羰基、乙酰基、苄氧羰基、笏甲氧羰基(Fmoc)；其他各基团定义同前。