[发明专利]一种激光清洗系统以及清洗方法

权利要求书

1.一种激光清洗系统，其特征在于，包括光源组件以及清洗组件；

所述清洗组件包括：一反射结构，以及一由若干组反射不同波长的镜片组成的转镜结构，其中，所述转镜结构同一组镜片中各个镜片的尺寸不同；所述光源组件发射的激光，通过所述反射结构反射至所述转镜结构，由所述转镜结构将所述激光输出。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述反射结构为可转动的反射镜，所述反射镜由多个反射不同波长的第一反射区域构成；

所述反射结构中各第一反射区域的工作波长与所述转镜结构中各组镜片的工作波长对应。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述转镜结构还包括可沿中心轴转动的固定单元；

所述镜片的镜面垂直于所述镜片的中心与所述固定单元的中心轴的连线，且相对于所述固定单元的另一侧设有第二反射区域，以及与所述第二反射区域两侧连接的保留区域；所述第二反射区域的面积大于所述激光的光斑面积；

所述镜片沿所述固定单元的转动方向依次设置在所述固定单元的表面；且在同一组镜片中，各个镜片在所述固定单元的转动方向上的尺寸不同；

所述转镜结构中各个镜片为平面镜或凸面镜。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括：与所述光源组件配合的校准组件，以及与所述光源组件、所述校准组件以及清洗组件连接的控制组件；

所述校准组件包括可调光阑以及三维调节平台，所述可调光阑设置于所述光源组件与所述反射结构之间，所述光源组件设置于所述三维调节平台上。

5.一种激光清洗方法，其特征在于，应用于激光清洗系统，所述激光清洗系统包括光源组件，以及具有反射结构与转镜结构的清洗组件，所述方法包括：

采用所述反射结构将所述光源组件发射的激光，反射至所述转镜结构；

采用所述转镜结构中与所述激光的波长适配的镜片，将所述激光反射至所述清洗组件。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述反射结构为可转动的反射镜，所述反射镜由多个反射不同波长的第一反射区域构成，所述镜片具有第二反射区域，所述采用所述反射结构将所述光源组件发射的激光，反射至所述转镜结构，包括：

采用所述反射结构中与所述激光的波长适配的第一反射区域，将所述光源组件发射的激光，反射至与所述第一反射区域对应的第二反射区域。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述激光清洗系统还包括具有可调光阑以及三维调节平台的校准组件，所述采用所述反射结构将所述光源组件发射的激光，反射至所述转镜结构之前，所述方法还包括：

采用所述三维调节平台对所述光源组件进行三维坐标位置调节，以及采用所述可调节光阑对所述激光进行准直校准。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述激光清洗系统还包括传送结构、吹风结构以及吸尘结构，所述方法还包括：

采用所述吹风结构将所述传送结构的待清洗工件上，清洗出的尘粒污垢吹向所述吸尘结构；

采用所述吸尘结构将所述尘粒污垢吸进排除。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述采用所述反射结构中与所述激光的波长适配的第一反射区域，将所述光源组件发射的激光，反射至与所述第一反射区域对应的第二反射区域，包括：

在静态清洗模式下，采用所述反射结构中与所述激光的波长适配的第一反射区域，将所述激光反射至所述镜片第二反射区域的中间位置；

采用所述第二反射区域，将所述激光反射至所述待清洗工件进行清洗。

10.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，采用所述反射结构中与所述激光的波长适配的第一反射区域，将所述光源组件发射的激光，反射至与所述第一反射区域对应的第二反射区域，包括：

在动态清洗模式下，采用所述反射结构与所述激光的波长适配的第一反射区域，将所述激光反射至所述镜片第二反射区域；

控制所述转镜结构按照预设角速度ω进行周期双向钟摆式转动，由所述反射结构射入所述转镜结构后，被所述转镜结构反射的激光随着所述转镜结构的转动，将所述激光反射至所述待清洗工件进行清洗。