[发明专利]一种激光清洗系统以及清洗方法

说明书

本发明实施例提供了一种激光清洗系统以及清洗方法，其中，所述激光清洗系统包括光源组件以及清洗组件，清洗组件包括一反射结构，以及一由若干组反射不同波长的镜片组成的转镜结构，其中，转镜结构同一组镜片中各个镜片的尺寸不同，光源组件发射的激光，可以通过反射结构反射至转镜结构，由转镜结构将激光输出，通过转镜结构上不同尺寸的镜片，可以满足不同种类与面积的加工件，同时通过转镜结构上若干组反射不同波长的镜片，可以适用于各种类型的激光器，兼容性强，在满足清洗要求的情况下，提高了清洗系统的清洗效率。

技术领域

本发明涉及光能清洗技术领域，特别是涉及一种激光清洗系统以及清洗方法。

背景技术

激光清洗作为一种新型的表面清洗技术，具有无机械接触、无基底损伤、选择性清洗及绿色环保等优点，在文物保护、光电子元器件制备和轮胎模具清洗等领域应用广泛。

目前，主要作为激光清洗的激光器有光纤激光器、Nd:YAG激光器、CO₂激光器以及准分子激光器。光纤激光器主要作用于金属表面除锈，后者因为波长短、峰值功率高等优点可用于集成电路、液晶显示器线路板等微电子基板的清洗。然而，在激光清洗装置中存在以下问题：

1、扫描范围有限，且不可调节，不利于多种尺寸的工件进行加工；

2、镜片镀膜单一，适应性低；

3、激光反射存在随机性，容易对操作者造成伤害。

综上所述，当前的激光清洗设备仍然存在许多缺陷及不足，需要一种可配合多类型激光器的清洗设备。

发明内容

鉴于上述问题，提出了本发明实施例以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种激光清洗系统以及清洗方法。

为了解决上述问题，本发明实施例公开了一种激光清洗系统，包括光源组件以及清洗组件；

所述清洗组件包括：一反射结构，以及一由若干组反射不同波长的镜片组成的转镜结构，其中，所述转镜结构同一组镜片中各个镜片的尺寸不同；所述光源组件发射的激光，通过所述反射结构反射至所述转镜结构，由所述转镜结构将所述激光输出。

可选地，所述反射结构为可转动的反射镜，所述反射镜由多个反射不同波长的第一反射区域构成；

所述反射结构中各第一反射区域的工作波长与所述转镜结构中各组镜片的工作波长对应。

可选地，所述转镜结构还包括可沿中心轴转动的固定单元；

所述镜片的镜面垂直于所述镜片的中心与所述固定单元的中心轴的连线，且相对于所述固定单元的另一侧设有第二反射区域，以及与所述第二反射区域两侧连接的保留区域；所述第二反射区域的面积大于所述激光的光斑面积；

所述镜片沿所述固定单元的转动方向依次设置在所述固定单元的表面；且在同一组镜片中，各个镜片在所述固定单元的转动方向上的尺寸不同；

所述转镜结构中各个镜片为平面镜或凸面镜。

可选地，还包括：与所述光源组件配合的校准组件，以及与所述光源组件、所述校准组件以及清洗组件连接的控制组件；

所述校准组件包括可调光阑以及三维调节平台，所述可调光阑设置于所述光源组件与所述反射结构之间，所述光源组件设置于所述三维调节平台上。

可选的，所述系统具有静态清洗模式以及动态清洗模式；

在所述静态清洗模式下，所述反射结构将所述光源组件发射的激光反射至所述第二反射区域的中间位置。