[发明专利]一种喷绘反光膜及其制备工艺

权利要求书

1.一种喷绘反光膜，包括从上至下依次设置的反光面层(2)、包含玻璃微珠(3)和树脂层(10)的反光层、反射层(6)、背胶层(4)和离型纸(8)，其特征在于，所述玻璃微珠(3)植入树脂层(10)的深度为玻璃微珠(3)直径的1/3-1/2，所述反射层(6)包覆在玻璃微珠(3)的表面，所述反射层(6)的一侧设置有粘接层(9)，所述背胶层(4)位于粘接层(9)与离型纸(8)之间，且背胶层(4)对应相邻所述玻璃微珠(3)之间设置有支柱(7)，相邻所述支柱(7)之间设置有用于容纳玻璃微珠(3)和反射层(6)的弧形凹槽，所述反光面层(2)的表面还粘接有喷绘层(1)，所述喷绘层(1)的表面附着有耐酸碱保护层(5)，所述玻璃微珠(3)的直径为20-30um,相邻所述玻璃微珠(3)之间的距离为50-70um，且玻璃微珠(3)的折射率为1.80-1.94，所述支柱(7)的顶部到根部的距离为20-40um，所述反光面层(2)为PET薄膜，所述树脂层(10)与粘接层(9)均采用热塑性聚氨酯，所述反射层(6)为附着在玻璃微珠(3)表面的镀铝层，所述背胶层(4)选用丙烯酸酯压敏胶，覆盖单个玻璃微珠(3)的所述反射层(6)被粘接层(9)和树脂层(10)所封闭。

2.根据权利要求1所述的一种喷绘反光膜，其特征在于，所述喷绘层(1)采用PVC改性丙烯酸树脂材料，所述耐酸碱保护层(5)选用氟化镁、二氧化硅或一氧化硅的一种或多种为其主体材料。

3.根据权利要求1所述的一种喷绘反光膜，其特征在于，所述树脂层(10)的厚度为40-80um，所述粘接层(9)的厚度为10-40um，所述反射层(6)的厚度为20-60um，所述背胶层(4)的厚度为30-50um,所述喷绘反光膜的总体厚度为200-300um。

4.一种喷绘反光膜的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

(1)植入玻璃微珠：在反光面层(2)的一面进行电晕处理，并涂布一层热塑性聚氨酯材料，再将玻璃微珠(3)通过高压气流植入述树脂层(10)，在橡胶压辊的作用下使玻璃微珠(3)嵌入其中，嵌入的深度为玻璃微珠(3)直径的1/3-1/2，烘干定型后形成反光层，随后在玻璃微珠(3)的表面镀铝从而形成反射层(6)；

(2)涂布粘接层：在反射层(6)的表面涂布一层热塑性聚氨酯后形成粘接层(9)，不需要加热处理；

(3)压花：通过热压花辊压花处理使得粘接层(9)在相邻玻璃微珠(3)之间因受压形成与反光面层(2)粘接的支柱(7)，并在热压花辊的烘干下定型；

(4)涂布背胶层和贴离型纸：在粘接层(9)压花后，在粘接层(9)背面涂布丙烯酸酯压敏胶材料，使其完全填满压花形成的凹陷中，从而形成背胶层(4)，并将背胶层(4)远离玻璃微珠(3)的一面涂布平整，随后在此平面上粘合离型纸(8)；

(5)涂布喷绘层：将反光面层(2)远离玻璃微珠(3)的一面进行电晕处理，并在其表面涂布PVC改性丙烯酸树脂材料，加热固化后做喷绘处理；

(6)涂布耐酸碱保护层：选用二氧化硅和氟化镁为耐酸碱保护层(5)的主体材料，以蒸发镀膜方式将其镀在喷绘层(1)的表面，从而成型耐酸碱保护层(5)。

5.根据权利要求4所述的一种喷绘反光膜的制备工艺，其特征在于，所述步骤(3)中花辊压花时的压花温度160℃～200℃。

6.根据权利要求4所述的一种喷绘反光膜的制备工艺，其特征在于，所述步骤(6)中二氧化硅和氟化镁的比重为1:0.8，镀膜的速度为400r/min,镀膜的温度在2000-2200℃。