[发明专利]一种掩膜版清洗装置及清洗方法

权利要求书

1.一种掩膜版清洗装置，其特征在于，包括：清洗槽和辅助清洗组件，其中，

所述清洗槽用于收容清洗药液及浸入所述清洗药液的待清洗掩膜版；

所述辅助清洗组件设于所述清洗槽外，且相对所述清洗槽可移动设置，所述辅助清洗组件包括：热源、降解光源、超声波发生器中的一种或多种的组合。

2.根据权利要求1所述的掩膜版清洗装置，其特征在于，还包括形成在所述清洗槽外部的导轨，所述辅助清洗组件可移动的安装在所述导轨上；

优选地，所述掩膜版清洗装置包括至少两条导轨及至少两个所述辅助清洗组件，每条所述导轨上均至少对应安装一个所述辅助清洗组件。

3.根据权利要求1所述的掩膜版清洗装置，其特征在于，所述辅助清洗组件包括降解光源，所述清洗槽的至少一个侧壁为透明材质，所述降解光源相对于透明材质的所述侧壁可移动设置；

优选地，所述透明材质为玻璃材质。

4.根据权利要求3所述的掩膜版清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的一个侧壁为透明材质，且在该透明材质的所述侧壁外部设置有至少一条导轨，所述辅助清洗组件可往返移动的安装在所述导轨上；

优选地，在透明材质的所述侧壁外部设置有两条导轨，且在每条所述导轨上分别安装有至少一个所述辅助清洗组件；两条所述导轨相对于所述清洗槽底壁的水平高度不同。

5.根据权利要求3所述的掩膜版清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的相对设置的两个侧壁为透明材质，且在透明材质的每个所述侧壁外部设置有至少一条导轨，所述辅助清洗组件可往返移动的安装在所述导轨上；

优选地，在透明材质的每个所述侧壁外部设置有两条导轨，且在每条所述导轨上分别安装有至少一个所述辅助清洗组件；两条所述导轨相对于所述清洗槽底壁的水平高度不同。

6.根据权利要求3所述的掩膜版清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的侧壁均为透明材质，且在至少一个所述侧壁外部设置有至少一条导轨，所述辅助清洗组件可往返移动的安装在所述导轨上；或者，在所述清洗槽的外部形成有至少一条环形导轨，所述辅助清洗组件可往返移动或可绕所述清洗槽环形运动的安装在所述环形导轨上；

优选地，在所述清洗槽的外部形成有一条环形导轨，且在该所述环形导轨上安装有两个所述辅助清洗组件，两个所述辅助清洗组件间隔设置；

优选地，在所述清洗槽的外部形成有两条环形导轨，且在每条所述环形导轨上分别安装有至少一个所述辅助清洗组件；两条所述导轨相对于所述清洗槽底壁的水平高度不同。

7.根据权利要求1所述的掩膜版清洗装置，其特征在于，还包括驱动装置，所述驱动装置设于所述清洗槽外，且所述驱动装置与所述辅助清洗组件连接用于带动所述辅助清洗组件移动。

8.根据权利要求1所述的掩膜版清洗装置，其特征在于，还包括用于将所述清洗槽和所述辅助清洗组件与环境隔离的隔离罩，所述清洗槽和所述辅助清洗组件置于所述隔离罩内。

9.根据权利要求1所述的掩膜版清洗装置，其特征在于，所述辅助清洗组件为紫外线光源。

10.一种掩膜版清洗方法，其特征在于，包括：

在清洗槽内放入待清洗掩膜版与清洗药液；

开启设置在所述清洗槽外部的辅助清洗组件，并驱动所述辅助清洗组件相对所述清洗槽移动；所述辅助清洗组件包括：热源、降解光源、超声波发生器中的一种或多种的组合；

优选地，所述辅助清洗组件包括降解光源，利用所述降解光源照射所述清洗槽内的所述待清洗掩膜版。