[发明专利]一种掩膜版清洗装置及清洗方法

说明书

本发明实施例涉及半导体制造技术领域，公开了一种掩膜版清洗装置，包括：清洗槽和辅助清洗组件，其中，清洗槽用于收容清洗药液及浸入清洗药液的待清洗掩膜版；辅助清洗组件设于清洗槽外，且相对清洗槽可移动设置，辅助清洗组件包括：热源、降解光源、超声波发生器中的一种或多种的组合。本发明实施方式提供的掩膜版清洗装置及清洗方法，实现了对待清洗掩膜版快速、彻底的清洁。

技术领域

本发明实施例涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种掩膜版的清洗装置及清洗方法。

背景技术

蒸镀工艺使用的掩膜版，很容易残留蒸镀材料，难以清洗。蒸镀掩膜版清洗工艺一般使用化学药液比如：硫酸、去离子水、氨水、二氧化碳、臭氧、双氧水等，去除掩膜版表面残留的蒸镀材料。为提高清洗效率，现有技术中通常采用加热、循环、超声波振动等方式加速残留物质的去除。

然而，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：由于掩膜版上存在多处开孔，而在掩膜版开孔处极易残留蒸镀材料，仅通过现有清洗工艺难以快速、彻底的清洁掩膜版上的残留物质。

发明内容

本发明实施方式的目的在于提供一种掩膜版清洗装置及清洗方法，实现了对待清洗掩膜版快速、彻底的清洁。

为解决上述技术问题，本发明的实施方式提供了一种掩膜版清洗装置，包括：清洗槽和辅助清洗组件，其中，清洗槽用于收容清洗药液及浸入清洗药液的待清洗掩膜版；辅助清洗组件设于清洗槽外，且相对清洗槽可移动设置，辅助清洗组件包括：热源、降解光源、超声波发生器中的一种或多种的组合。

本发明实施方式相对于现有技术而言，提供了一种掩膜版清洗装置，包括：清洗槽和辅助清洗组件，其中，清洗槽用于收容清洗药液及浸入清洗药液的待清洗掩膜版；辅助清洗组件设于清洗槽外，且相对清洗槽可移动设置，辅助清洗组件包括：热源、降解光源、超声波发生器中的一种或多种的组合。本实施方式中利用清洗药液清洗待清洗掩膜版的同时，还利用设于清洗槽外的可移动的辅助清洗组件清洁待清洗掩膜版，相比于单独的药液清洗或单独的辅助清洗组件清洁来说，采用热源、降解光源、超声波发生器中的一种或多种的组合方式辅助清洗药液清洗待清洗掩膜版，实现了掩膜版的快速、彻底的清洁。

另外，还包括形成在清洗槽外部的导轨，辅助清洗组件可移动的安装在导轨上；优选地，掩膜版清洗装置包括至少两条导轨及至少两个辅助清洗组件，每条导轨上均至少对应安装一个辅助清洗组件。

另外，辅助清洗组件包括降解光源，清洗槽的至少一个侧壁为透明材质，降解光源相对于透明材质的侧壁可移动设置；优选地，透明材质为玻璃材质。

另外，清洗槽的一个侧壁为透明材质，且在该透明材质的侧壁外部设置有至少一条导轨，辅助清洗组件可往返移动的安装在导轨上；优选地，在透明材质的侧壁外部设置有两条导轨，且在每条导轨上分别安装有至少一个辅助清洗组件；两条导轨相对于清洗槽底壁的水平高度不同。该方案中在透明材质的侧壁外部设置导轨，辅助清洗组件往返移动地安装在导轨上，待清洗掩膜版无需在清洗槽内移动便可实现对待清洗掩膜版表面残留物质的完全清洁，同时还可以减小清洗槽的体积；优选地，两条导轨相对于清洗槽底壁的水平高度不同，使得两条导轨上的辅助清洗组件能够实现对待清洗掩膜版的均匀清洁，使得掩膜版表面的清洁更加的彻底。

另外，清洗槽的相对设置的两个侧壁为透明材质，且在透明材质的每个侧壁外部设置有至少一条导轨，辅助清洗组件可往返移动的安装在导轨上；优选地，在透明材质的每个侧壁外部设置有两条导轨，且在每条导轨上分别安装有至少一个辅助清洗组件；两条导轨相对于清洗槽底壁的水平高度不同。该方案中清洗槽相对设置的两个侧壁均为透明材质，在每个透明材质的侧壁外部设置导轨，辅助清洗组件往返移动地安装在导轨上，待清洗掩膜版无需在清洗槽内移动便可实现对待清洗掩膜版两面的表面残留物质的完全清洁，同时还可以减小清洗槽的体积；优选地，两条导轨相对于清洗槽底壁的水平高度不同，使得两条导轨上的辅助清洗组件能够实现对待清洗掩膜版的均匀清洁，使得掩膜版表面的清洁更加的彻底。