[发明专利]一种X射线波带片的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910367350.4 申请日: 2019-05-05
公开(公告)号: CN110060793B 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 孔祥东;姚广宇;李艳丽;韩立 申请(专利权)人: 中国科学院电工研究所
主分类号: G21K1/06 分类号: G21K1/06
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 杜阳阳
地址: 100000 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 射线 波带片 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种X射线波带片的制备方法,其特征在于,包括:

将镀有X射线波带片多层膜结构的细丝通过液体碳胶固定于铜皮上,所述细丝的侧表面与所述铜皮接触;

将载有所述细丝的铜皮两端通过导电胶固定于衬底上;

采用聚焦离子束将所述细丝和铜皮的一体结构切割成薄片;

采用聚焦离子束切割所述薄片与衬底接触的部分,使所述薄片完全脱离所述衬底;

将所述薄片移动并采用聚焦离子束沉积技术固定到金属载网上;

将所述金属载网上的薄片抛光成所需厚度。

2.根据权利要求1所述的一种X射线波带片的制备方法,其特征在于,所述铜皮厚度小于10微米。

3.根据权利要求1所述的一种X射线波带片的制备方法,其特征在于,将机械臂固定于所述薄片外表面。

4.根据权利要求1所述的一种X射线波带片的制备方法,其特征在于,使用机械臂将所述薄片移动到金属载网上,采用聚焦离子束沉积技术将所述薄片固定到所述金属载网上,然后移去所述机械臂。

5.根据权利要求1所述的一种X射线波带片的制备方法,其特征在于,采用聚焦离子束将所述金属载网上的薄片抛光成所需厚度。

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