[发明专利]一种LED芯片的切割方法有效
申请号: | 201910367739.9 | 申请日: | 2019-05-05 |
公开(公告)号: | CN111900080B | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 李法健;闫宝华;王成新 | 申请(专利权)人: | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;H01L21/78;H01L33/00;B23K26/38 |
代理公司: | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人: | 陈晓蕾 |
地址: | 261061*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 led 芯片 切割 方法 | ||
1.一种LED芯片的切割方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)准备芯片:取研磨后的芯片,备用;
2)芯片P面半切:取步骤1)准备的芯片,放入锯片机,锯片机自动校准水平,分别沿水平解理边和垂直解理边进行半切,直至将P面电极等距离分割;
3)芯片N面激光划片:取步骤2)切割后的芯片,贴蓝膜;再将贴完膜的芯片放入紫外激光划片机,根据P面半切刀痕调整水平,划片切割;
4)芯片N面全切:取步骤3)激光划片后的芯片,放入锯片机中,N面上沿着激光划痕切割,切割深度与P面的半切深度重合;
5)再将芯片放在扩膜机上,预热,扩膜,使其分割成为一个个独立的晶粒;
6)结束操作。
2.根据权利要求1所述的一种LED芯片的切割方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)准备芯片:取研磨后的芯片,备用;
2)芯片P面半切:取步骤1)准备的芯片,P面朝上放入锯片机,锯片机自动校准水平,分别沿水平解理边和垂直解理边进行半切,直至将P面电极等距离分割;半切深度为芯片厚度的22%-25%;
3)芯片N面激光划片:取步骤2)切割后的芯片,P面朝向蓝膜,N面朝上,贴在蓝膜上;再将贴完膜的芯片放入紫外激光划片机,根据P面半切刀痕调整水平,N面划片切割,形成的激光划痕的深度为芯片厚度的10%-15%;
4)芯片N面全切:取步骤3)激光划片后的芯片,放入锯片机中,N面上沿着激光划痕切割,切割深度与P面的半切深度重合;
5)再将芯片放在扩膜机上,预热10s,扩膜,使其分割成为一个个独立的晶粒;
6)结束操作。
3.根据权利要求2所述的一种LED芯片的切割方法,其特征在于:所述步骤2)中,锯片机的切割速度为40-70mm/s,锯片刀的刀刃伸出量为400-550μm。
4.根据权利要求2所述的一种LED芯片的切割方法,其特征在于:所述步骤3)中,激光器功率为1.4-1.7W,功率输出百分比为60-98%,划片速度120-150mm/s。
5.根据权利要求2所述的一种LED芯片的切割方法,其特征在于:所述步骤4)中,锯片机的锯片刀高为芯片和蓝膜厚度的80%-85%,切割速度为50-70mm/s。
6.根据权利要求2所述的一种LED芯片的切割方法,其特征在于:所述步骤5)中,预热温度为70-75℃。
7.根据权利要求2所述的一种LED芯片的切割方法,其特征在于:所述芯片的衬底为砷化镓基、硅基中的一种。
8.根据权利要求2所述的一种LED芯片的切割方法,其特征在于:所述蓝膜型号为spv-224S,所述蓝膜的尺寸为220mm×100m。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造