[发明专利]一种LED芯片的切割方法有效
申请号: | 201910367739.9 | 申请日: | 2019-05-05 |
公开(公告)号: | CN111900080B | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 李法健;闫宝华;王成新 | 申请(专利权)人: | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;H01L21/78;H01L33/00;B23K26/38 |
代理公司: | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人: | 陈晓蕾 |
地址: | 261061*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 led 芯片 切割 方法 | ||
本发明公开了一种LED芯片的切割方法,本发明采用紫外激光背面划片做标记同时利用激光高温汽化去除背面金属,采用锯片刀P面全半切和N面全切的方法,使芯片分割成为一个个个独立的晶粒,相比现有工艺从P面直接切透或最终使用裂片机劈裂,既消除了锯片刀直接切割金属造成刀刃磨损产生崩边和使用裂片机的机械压力带来的斜裂、崩边等外观异常,同时从背面全切割能增大发光面积。此种方法是一种即能改善切割外观又能够增大LED发光面积提高亮度的切割方法。本发明工艺简单,参数设置合理,不仅能改善切割外观,提高芯片良率,同时又增大了LED发光面积,提高亮度,具有较好的实用性和工业推广性。
技术领域
本发明涉及LED芯片制备技术领域,具体是一种LED芯片的切割方法。
背景技术
在LED芯片制备工艺中,切割就是将经过光刻、镀膜、减薄等工艺制程后的整个芯片分割成所需求尺寸的单一晶粒的过程,这是半导体发光二极管芯片制备工艺中不可或缺的一道工序。对于LED芯片,比较传统的也是现业界采用最广泛的切割方式是锯片切割。
锯片切割是用高速旋转(3-4r/min)的金刚刀按工艺需求设定好的程序将芯片完全锯开成单一的晶粒;常规的GaAs基LED芯片的切割方法是先用金刚刀将芯片进行微切(半切),再用金刚刀沿半切刀痕进行全切断。但是锯片切割存在一个不可避免的问题:GaAs材料比较脆,而且芯片正背面会蒸镀比较厚的金属材料,使得芯片本身的应力较大,再加上切割时切割刀直接接触芯片,这就使得芯片加工时容易破碎,芯片周围边缘容易产生崩边、崩角、裂纹等,影响芯片外观质量,降低良率。
激光切割是随着激光技术的发展而出现的一种新型的切割技术,主要有激光表面切割和隐形切割两种;激光切割是通过一定能量密度和波长的激光束聚焦在芯片表面或内部,通过激光在芯片表面或内部灼烧出划痕,然后再用裂片机沿划痕裂开。
激光切割具有产能高、成品率高、自动化操作、成本低等优势。但激光切割本身也存在一些问题,激光划片时,激光照射会破坏芯片的有源区,需要在芯片四周设置较宽的划线槽,由于划线槽里存在较厚的金属层,激光作用后,会产生大量的碎屑,划线槽边缘会出现喷涂、烧蚀现象,也限制了产能的提升,同时裂片机裂片时也会因金属材料的延展性出现难裂、双胞等现象。
中国专利文献CN102709171B公开的《GaAs基板超小尺寸LED芯片的切割方法》,包括:首先在芯片表面实行全面微切的步骤,半切的深度为芯片总体高度的10%~20%,然后对芯片进行全透切割的步骤,即将半切后的芯片放置于切割机台上,用钻石刀将芯片从边沿开始沿切割道进行彻底分离的切割。但该方法的缺点是沿着半切的切割道进行全面透切割事,刀高必须降低,刀深加深,刀背与芯片表面接触面积增大,不可避免的会产生崩裂,不能有效的解决切割崩裂问题。
CN102709409B公开的《一种四元系LED芯片及其切割方法》,包括:第一步在LED芯片正极端一面用金刚石切割刀半切LED芯片,形成切割道,将等间距排列的LED芯片的正极端分隔开,第二步LED芯片的正极端贴上蓝膜,负极短贴上麦拉膜,第三步将LED芯片的正极端朝下,负极端朝上放置于劈裂机的劈裂台上,用劈裂机的劈裂刀沿切割道将LED芯片压断,LED芯片被加工成了一个个独立的晶粒。但该方法的缺点是芯片正极用金刚石刀切,负极直接用劈裂刀劈裂,直接作用在芯片上的刚性力量大,芯片自身的翘曲应力也大,切割后的芯片出现崩裂、崩角的概率非常大。
CN104347760A公开的《一种LED芯片的切割方法》,包括:在芯片背面用激光划出划痕,用金刚石锯片刀沿划痕锯片,还包括将背切的芯片翻转倒膜,用裂片刀在芯片正面沿沟槽切割成一颗颗晶粒。但该方法的缺点是芯片背面用激光划出划痕后再用锯片刀直接切割,划痕槽边缘并不光滑平整,容易造成锯片刀崩刀,导致崩裂,且制备的芯片是换衬底的芯片,不适用与常规工艺制备的芯片。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造