[发明专利]对准及成膜装置、对准及成膜方法、电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种对准装置，其特征在于，包括：

用于支承基板的基板支承单元；

用于支承掩模的掩模支承单元；以及

用于吸附所述基板并隔着所述基板吸附所述掩模的静电吸盘，

所述基板支承单元以及所述掩模支承单元能够相对于所述静电吸盘在第一方向、与第一方向交叉的第二方向、以及以与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向为轴的旋转方向中的至少一个方向上移动或旋转。

2.如权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

所述对准装置还包括对准台，所述对准台用于使所述基板支承单元以及所述掩模支承单元相对于所述静电吸盘在所述第一方向、所述第二方向以及所述旋转方向中的至少一个方向上移动或旋转，

所述静电吸盘从所述对准台分离而独立地设置。

3.如权利要求2所述的对准装置，其特征在于，

所述静电吸盘以在所述第一方向、所述第二方向以及所述旋转方向上被固定的方式设置。

4.如权利要求3所述的对准装置，其特征在于，

所述对准装置还包括真空容器，

所述静电吸盘以相对于所述真空容器在所述第一方向、所述第二方向以及所述旋转方向上被固定的方式设置。

5.如权利要求2所述的对准装置，其特征在于，

所述对准装置还包括用于使所述基板支承单元在所述第三方向上移动的基板支承单元驱动机构，

所述基板支承单元驱动机构搭载于所述对准台上。

6.如权利要求2所述的对准装置，其特征在于，

所述对准装置还包括用于使所述掩模支承单元在所述第三方向上移动的掩模支承单元驱动机构，

所述掩模支承单元驱动机构搭载于所述对准台上。

7.如权利要求2所述的对准装置，其特征在于，

所述对准装置还包括用于使所述静电吸盘在所述第三方向上移动的静电吸盘驱动机构，

所述静电吸盘驱动机构从所述对准台分离而独立地设置。

8.如权利要求7所述的对准装置，其特征在于，

所述静电吸盘驱动机构以在所述第一方向、所述第二方向以及所述旋转方向上被固定的方式设置。

9.如权利要求8所述的对准装置，其特征在于，

所述对准装置还包括真空容器，

所述静电吸盘驱动机构以相对于所述真空容器在所述第一方向、所述第二方向以及所述旋转方向上被固定的方式设置。

10.一种成膜装置，用于将蒸镀材料经由掩模成膜到基板上，其特征在于，

包括权利要求1～9中任一项所述的对准装置。

11.一种对准方法，其特征在于，包括：

利用基板支承单元支承基板的阶段；

利用掩模支承单元支承掩模的阶段；

通过使所述基板和所述掩模中的至少一个相对于静电吸盘在第一方向、与第一方向交叉的第二方向、以及以与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向为轴的旋转方向中的至少一个方向上移动或旋转，从而进行位置调整的预对准阶段；以及

调整所述基板与所述掩模的相对位置的对准阶段。

12.如权利要求11所述的对准方法，其特征在于，

所述预对准阶段包括通过使所述基板相对于所述静电吸盘在所述第一方向、所述第二方向以及所述旋转方向中的至少一个方向上移动或旋转来进行位置调整的阶段。

13.如权利要求12所述的对准方法，其特征在于，

在所述预对准阶段之后，还包括使所述基板吸附于所述静电吸盘的阶段，

所述对准阶段包括使所述掩模相对于被所述静电吸盘吸附的所述基板在所述第一方向、所述第二方向以及所述旋转方向中的至少一个方向上移动或旋转的阶段。