[发明专利]一种磁瓦检测装置及检测方法

权利要求书

1.一种磁瓦检测装置，包括输送机构(1)、检测机构(2)和分选机构(3)，其特征在于：所述输送机构(1)包括六个由高至低依次连接的输送工位(11)，所述输送工位(11)包括输送带(12)和设置在输送带(12)两侧的护板(13)，所述检测机构(2)包括第一检测单元(21)和第二检测单元(22)，六个所述输送工位(11)中的第一工位(11-1)和第六工位(11-6)的上方均设有第一检测单元(21)，其余四个输出工位(11)的上方均设有第二检测单元(22)，且每个输出工位(11)均设有分选机构(3)。

2.根据权利要求1所述的一种磁瓦检测装置，其特征在于：所述输送机构(1)包括由高至低依次连接的第一工位(11-1)、第二工位(11-2)、第三工位(11-3)、第四工位(11-4)、第五工位(11-5)和第六工位(11-6)，所述第一工位(11-1)垂直第二工位(11-2)设置，且除第一工位(11-1)外的其余五个工位设置在同一直线上。

3.根据权利要求1所述的一种磁瓦检测装置，其特征在于：所述第一工位(11-1)两侧第一护板(13-1)之间的距离不小于磁瓦(4)的长度或宽度。

4.根据权利要求1所述的一种磁瓦检测装置，其特征在于：所述第六工位(11-6)与前一工位连接处的第六护板(13-6)远离第一工位(11-1)的一侧设有向外增大的过渡导板(14)，且该侧设有限位挡块(15)。

5.根据权利要求1所述的一种磁瓦检测装置，其特征在于：除所述第一工位(11-1)和第六工位(11-6)外的其余四个工位上的护板(13)之间的距离不小于磁瓦(4)的厚度。

6.根据权利要求1所述的一种磁瓦检测装置，其特征在于：所述第一检测单元(21)包括至少两个工业相机，一个单次曝光，主要用于检测磁瓦(4)外圆或内圆的研磨伤，另一个采用明场、暗场联合曝光方式拍摄图像。

7.根据权利要求1所述的一种磁瓦检测装置，其特征在于：所述第二检测单元(22)包括至少一个工业相机，该相机采用明场、暗场联合曝光方式拍摄图像。

8.根据权利要求1所述的一种磁瓦检测装置，其特征在于：所述分选机构(3)设置在输出工位(11)末端，且分选机构(3)包括设置在输出工位(11)两侧的吹气管(31)和出料管(32)，所述护板(13)对应吹气管(31)和出料管(32)的位置设有通孔(16)。

9.一种根据权利要求1-8任意一项所述检测装置进行磁瓦检测的方法，其特征在于：包括以下步骤：

a)、磁瓦(4)外圆朝上进入第一工位(11-1)，且其轴向方向正交于第一工位(11-1)的输送带(12)前进方向，第一检测单元(21)对磁瓦(4)外圆进行取像分析，如存在缺陷则通过分选机构(3)进行剔除，如没有缺陷则进入下一工位；

b)、步骤a)检测没有缺陷的磁瓦(4)经第一工位(11-1)和第二工位(11-2)交接处竖直旋转90°，落入第二工位(11-2)，第二检测单元(22)对磁瓦(4)第一端面进行取像分析，如存在缺陷则通过分选机构(3)进行剔除，如没有缺陷则进入下一工位；

c)、步骤b)检测没有缺陷的磁瓦(4)经第二工位(11-2)和第三工位(11-3)交接处竖直旋转90°，落入第三工位(11-3)，第二检测单元(22)对磁瓦(4)第二端面进行取像分析，如存在缺陷则通过分选机构(3)进行剔除，如没有缺陷则进入下一工位；

d)、步骤c)检测没有缺陷的磁瓦(4)经第三工位(11-3)和第四工位(11-4)交接处竖直旋转90°，落入第四工位(11-4)，第二检测单元(22)对磁瓦(4)第三端面进行取像分析，如存在缺陷则通过分选机构(3)进行剔除，如没有缺陷则进入下一工位；

e)、步骤d)检测没有缺陷的磁瓦(4)经第四工位(11-4)和第五工位(11-5)交接处竖直旋转90°，落入第五工位(11-5)，第二检测单元(22)对磁瓦(4)第四端面进行取像分析，如存在缺陷则通过分选机构(3)进行剔除，如没有缺陷则进入下一工位；

f)、步骤e)检测没有缺陷的磁瓦(4)经第五工位(11-5)和第六工位(11-6)交接处竖直旋转90°，落入第六工位(11-6)后向过渡导板(14)一侧翻转180°倒下，磁瓦(4)内圆朝上，并在限位挡块(15)的作用下水平旋转90°，即磁瓦(4)轴向方向正交于第六工位(11-6)的输送带(12)前进方向，第一检测单元(21)对磁瓦(4)内圆进行取像分析，如存在缺陷则通过分选机构(3)进行剔除，如没有缺陷则送入良品集料盒中。