[发明专利]一种全彩OLED显示器的制作方法有效

专利信息
申请号: 201910376314.4 申请日: 2019-05-07
公开(公告)号: CN110246989B 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 罗志猛;赵云;张为苍 申请(专利权)人: 信利半导体有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 廖苑滨
地址: 516600 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 全彩 oled 显示器 制作方法
【权利要求书】:

1.一种全彩OLED显示器的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

在透明基板上依次制作彩膜层和平坦层形成彩膜基板;

在所述彩膜基板上形成水氧阻隔层;

在所述水氧阻隔层上形成OLED功能层;

其中,所述水氧阻隔层的膜厚根据彩膜层掩膜版TP值和OLED功能层掩膜版TP值确定;

所述彩膜基板上形成水氧阻隔层之后再重新拉平;

所述TP值为膜层图案或掩膜版的边长。

2.根据权利要求1所述的全彩OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述水氧阻隔层的膜厚与掩膜板TP值差值成正比,其中所述掩膜板TP值差值为OLED功能层掩膜版TP值减去彩膜层掩膜版TP值得到的差值。

3.根据权利要求1所述的全彩OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述水氧阻隔层的膜厚配置为使得所述彩膜基板膨胀拉长且使得膨胀后的彩膜层图案TP值与待形成的OLED功能层图案TP值匹配,即为膨胀后的彩膜层图案TP值与待形成的OLED功能层图案TP值的差值小于误差阈值。

4.根据权利要求1所述的全彩OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述水氧阻隔层的材料为SiNx或SiOxNy。

5.根据权利要求1所述的全彩OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述水氧阻隔层采用等离子体化学气相沉积法制作,其中沉积温度为150~230℃。

6.根据权利要求1所述的全彩OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述水氧阻隔层的厚度为1000~10000A。

7.根据权利要求1所述的全彩OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述水氧阻隔层在400~700nm波长范围内透过率大于80%。

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