[发明专利]一种全彩OLED显示器的制作方法

说明书

本发明提供了一种全彩OLED显示器的制作方法，包括以下步骤：在透明基板上依次制作彩膜层和平坦层形成彩膜基板；在所述彩膜基板上形成水氧阻隔层；在所述水氧阻隔层上形成OLED功能层；其中，所述水氧阻隔层的膜厚根据彩膜层掩膜版TP值和OLED功能层掩膜版TP值确定。本发明提供的制作方法使得水氧阻隔层的膜厚是根据彩膜层掩膜版TP值和OLED功能层掩膜版TP值确定的，根据彩膜层掩膜版TP值和OLED功能层掩膜版TP值来确定水氧阻隔层的膜厚就可以更好补偿因掩膜版误差导致的彩膜层图案和OLED功能层图案不匹配，使得最终形成的彩膜层图案和OLED功能层图案匹配，有效保证了显示质量。

技术领域

本发明涉及了显示技术领域，特别是涉及了一种全彩OLED显示器的制作方法。

背景技术

白光配合彩色滤光(CF+W)是实现全彩化显示的重要方法。这类全彩OLED 显示器的制作方法，一般在基板上先设置彩膜层，再在其上方设置OLED功能层。其中彩膜层需要与OLED显示层匹配，但是彩膜层掩膜版和OLED功能层掩膜版由于是分别制作的，往往存在一定的误差，使得彩膜层掩膜版TP值和OLED功能层掩膜版TP值偏差较大，进而导致形成的彩膜层图案TP值和OLED 功能层图案TP值也出现较大偏差，TP(total pitch)值为膜层图案或掩膜版的边长，这样会使得彩膜层和OLED功能层图案套合偏差，降低显示质量。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种全彩OLED显示器的制作方法，它可以有效解决彩膜层掩膜版TP值和OLED功能层掩膜版TP值偏差导致的彩膜层和OLED功能层图案不匹配的问题。

为了解决以上技术问题，本发明提供了一种全彩OLED显示器的制作方法，包括以下步骤：

在透明基板上依次制作彩膜层和平坦层形成彩膜基板；

在所述彩膜基板上形成水氧阻隔层；

在所述水氧阻隔层上形成OLED功能层；

其中，所述水氧阻隔层的膜厚根据彩膜层掩膜版TP值和OLED功能层掩膜版TP值确定。

作为本发明的一种优选方案，所述水氧阻隔层的膜厚与掩膜板TP值差值成正比，其中所述掩膜板TP值差值为OLED功能层掩膜版TP值减去彩膜层掩膜版TP值得到的差值。

作为本发明的一种优选方案，所述水氧阻隔层的膜厚配置为使得所述彩膜基板膨胀拉长且使得膨胀后的彩膜层图案TP值与待形成的OLED功能层图案TP 值匹配。

作为本发明的一种优选方案，所述膨胀后的彩膜层图案TP值与待形成的 OLED功能层图案TP值匹配即为膨胀后的彩膜层图案TP值与待形成的OLED 功能层图案TP值的差值小于误差阈值。

作为本发明的一种优选方案，所述水氧阻隔层的材料为SiNx或SiOxNy。

作为本发明的一种优选方案，所述水氧阻隔层采用等离子体化学气相沉积法制作，其中沉积温度为150～230℃。

作为本发明的一种优选方案，所述水氧阻隔层的厚度为1000～10000A。

作为本发明的一种优选方案，所述水氧阻隔层在400～700nm波长范围内透过率大于80％。