[发明专利]一种高性能二氧化硅-二氧化锡氢气传感器有效
申请号: | 201910376316.3 | 申请日: | 2019-05-07 |
公开(公告)号: | CN110161085B | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 张覃轶;姚志伟 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | G01N27/12 | 分类号: | G01N27/12 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 乔宇 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 性能 二氧化硅 氧化 氢气 传感器 | ||
本发明公开了一种高性能二氧化硅‑二氧化锡氢气传感器。通过丝网印刷技术将所制备的介孔SiO2印刷到SnO2气体传感器的表面形成改性层,得到高性能的氢气传感器。通过介孔SiO2改性的SnO2气体传感器,由于表面改性膜的存在,提高了其对于氢气的灵敏度,并降低了苯、丙酮等大分子气体对氢气的干扰,有效提高了其对于氢气的选择性。
技术领域
本发明涉及氢气传感器的技术领域,特别地,涉及一种高性能SiO2-SnO2氢气传感器及其制备工艺。
背景技术
随着科学技术的发展,氢气这种绿色无污染能源越来越多应用到人类的生产生活,但是氢气是一种易燃易爆气体,在空气中的体积分数为4%-75%时,极易发生燃烧爆炸,存在极大的安全隐患。因此对于氢气探测及监控是人们要解决的一大难题,而气体传感器正扮演着这一不可或缺的角色。在各类气体传感器中,半导体金属氧化物气体传感器以其结构简单、价格低廉、响应快等优势在市场上独占鳌头,而SnO2基气体传感器则是其中应用最广泛的。但是SnO2气体传感器用于氢气探测时容易受到其他还原性气体的干扰,在灵敏度和选择性等方面有待改善。
发明内容
本发明目的在于针对现有SnO2气体传感器对氢气的灵敏度和选择性较差等问题,提供一种高性能SiO2-SnO2氢气传感器及其制备工艺。基于丝网印刷技术的介孔SiO2表面改性的高性能SnO2氢气传感器制备工艺。
本发明为解决上述提出的问题所采用的技术方案为:
一种高性能SiO2-SnO2氢气传感器,包括SnO2气体传感器和印压在SnO2气体传感器上的介孔SiO2改性层,所述的介孔SiO2改性层厚度为7-23μm。
按上述方案,所述的介孔SiO2改性层厚度优选为15-23μm。
一种高性能SiO2-SnO2氢气传感器的制备方法,包括以下步骤:
1)将介孔SiO2粉末和印油快速用力研磨,将印油与粉末研磨均匀,使其充分混合;
2)将步骤1)所得的浆料利用丝网印刷法印制于SnO2气体传感器基片上;
3)置于干燥箱中,干燥使印油挥发;
4)多层印制:重复步骤(2)和(3)将印有1层介孔SiO2的SnO2气体传感器加印到不同层数;
5)将步骤4)所得气体传感器干燥,然后移至马弗炉中450-500℃烧结得到空白的SnO2气体传感器。
按上述方案,介孔SiO2粉末孔道结构清晰,孔径均匀,具有良好的介孔特性,介孔孔径为2-3nm。
按上述方案,所述步骤1)中印油和介孔SiO2粉末的质量比10:1-8:1。通过控制印油与介孔SiO2粉末的比例可调整印制的每层介孔SiO2改性层的质量及调控总厚度,由此可达到最佳的改性效果。
按上述方案,步骤3)的干燥温度为60℃,干燥1小时。
按上述方案,步骤5)中烧结为先升温为150℃,恒温20min,然后升温为300℃,恒温20min,最后将马弗炉温度设置为450-500℃℃,恒温2h。
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