[发明专利]彩膜基板、液晶显示装置及制备方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

基板、亚像素矩阵和黑矩阵；

所述亚像素矩阵设置于所述基板的一侧，所述亚像素矩阵包括多种颜色的亚像素，所述黑矩阵包括多个黑矩阵单元，所述黑矩阵单元填充于制备完成后的所述亚像素矩阵的所述亚像素之间的间隙中；

并且，在所述亚像素制备过程中，通过调整曝光间隔，调整曝光光线透过遮光板上的透光区域时产生的衍射的程度以及衍射光线的照射范围，使得相邻的两个所述亚像素之间在临近所述基板一侧的距离，小于相邻的两个所述亚像素之间远离所述基板一侧的距离；

在垂直于所述基板的方向上，至少部分所述亚像素的厚度小于所述黑矩阵单元的厚度；

所述亚像素的所述厚度，大于所述黑矩阵单元远离所述基板一侧的表面平行于所述基板的宽度中的最大宽度。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括平坦层；

所述平坦层设置于所述亚像素矩阵和所述黑矩阵远离所述基板的一侧，所述平坦层至少部分填充于每个所述亚像素与所述亚像素两侧黑矩阵单元之间的所述厚度差形成的空间中。

3.一种液晶显示装置，其特征在于，包括：

彩膜基板、阵列基板和液晶层；

所述彩膜基板和所述阵列基板对盒设置，所述液晶层设置于所述彩膜基板和所述阵列基板之间，所述彩膜基板为权利要求1或2所述的彩膜基板。

4.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基板上，设置包括多种颜色亚像素的亚像素矩阵，调整曝光间隔，调整曝光光线透过遮光板上的透光区域时产生的衍射的程度以及衍射光线的照射范围，使得相邻的两个所述亚像素之间在临近所述基板一侧的距离，小于相邻的两个所述亚像素之间远离所述基板一侧的距离；

形成包括多个黑矩阵单元的黑矩阵，所述黑矩阵单元填充于所述亚像素之间的间隙中；在垂直于所述基板的方向上，所述亚像素的厚度，大于所述黑矩阵单元远离所述基板一侧的表面平行于所述基板的宽度中的最大宽度，至少部分所述亚像素的厚度小于所述黑矩阵单元的厚度。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在基板上，设置包括多种颜色亚像素的亚像素矩阵，具体包括：

在所述基板上，设置对应于第一亚像素的光刻胶层；

通过光刻去除部分所述对应于第一亚像素的光刻胶层，形成包括多个第一亚像素的第一亚像素矩阵；

在所述第一亚像素矩阵和所述基板中除了对应所述第一亚像素矩阵之外的区域上，设置对应于第二亚像素的光刻胶层；

通过光刻去除部分所述对应于第二亚像素的光刻胶层，在所述基板中除了对应所述第一亚像素矩阵之外的区域上，形成包括多个第二亚像素的第二亚像素矩阵，所述第一亚像素用于产生第一颜色的光，所述第二亚像素用于产生第二颜色的光。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，还包括：

在所述第一亚像素矩阵、第二亚像素矩阵和所述基板中除了对应所述第一亚像素矩阵和第二亚像素矩阵之外的区域上，设置对应于第三亚像素的光刻胶层；

通过光刻去除部分所述对应于第三亚像素的光刻胶层，在所述基板中除了对应所述第一亚像素矩阵和第二亚像素矩阵之外的区域上，形成包括多个所述第三亚像素的第三亚像素矩阵，所述第三亚像素用于产生第三颜色的光。

7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，在形成第一亚像素矩阵、第二亚像素矩阵、第三亚像素矩阵的至少一项中，所述光刻包括：

在所述光刻胶层远离所述基板的一侧设置遮光版，所述遮光版包括透光区域和遮光区域；

调整所述遮光版与所述基板之间的曝光间隔至目标距离；

通过所述遮光版对所述光刻胶层进行曝光，使得所述光刻胶层中，对应于透光区域或遮光区域的所述亚像素的区域固化；

对所述光刻胶层进行显影，去除所述光刻胶层未固化的部分。