[发明专利]彩膜基板、液晶显示装置及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910386010.6 申请日: 2019-05-09
公开(公告)号: CN110297354B 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 任伟;李伟;陈延青;李岩锋;辛昊毅;魏威 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;宋海斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 液晶 显示装置 制备 方法
【说明书】:

本申请实施例提供了一种彩膜基板、液晶显示装置及制备方法。该彩膜基板包括:基板、亚像素矩阵和黑矩阵;亚像素矩阵设置于基板的一侧,亚像素矩阵包括多种颜色的亚像素,黑矩阵包括多个黑矩阵单元,黑矩阵单元填充于亚像素之间的间隙中;并且,相邻的两个亚像素之间在临近基板一侧的距离,小于相邻的两个亚像素之间远离基板一侧的距离。本申请实施例的彩膜基板中避免了亚像素的一部分覆盖在黑矩阵单元上,使得黑矩阵单元可以有效地隔离亚像素,从而避免亚像素串色,并且亚像素之间的空间形状可以提升黑矩阵单元的致密性和阻光性能,从而减小黑矩阵单元的尺寸,提高开口率,提高彩膜基板的透光性。

技术领域

本申请涉及液晶显示装置及部件的制备领域,具体而言,本申请涉及一种彩膜基板、液晶显示装置及制备方法。

背景技术

显示装置生产过程中,需要进行对发光颜色、发光程度等显示性能进行控制的亚像素的制作,以获得彩膜基板。现有的彩膜基板制备工艺中,首先在基板上制备黑矩阵,构成黑矩阵的黑矩阵单元之间具有一定的间隔,在该间隔位置中设置包括多少颜色的亚像素矩阵。

随着用户对显示装置的显示性能要求不断提高,出现了分辨率较高的全高清(FHD,Full High Definition)显示装置。实现较高的分辨率要求减小像素尺寸以及像素之间的距离。相对应地,亚像素的尺寸以及亚像素之间的距离也随之减小。此种通过减小亚像素的尺寸和间距的方式提高分辨率的方式将会导致亚像素串色或亚像素偏移的问题,严重的情况下甚至会出现亚像素重叠的现象。由亚像素的位置或形状引起的缺陷,在发光过程中会导致不期望的亚像素被部分点亮,影响显示效果。亚像素的至少部分重叠也会影响彩膜基板的透光性,进而影响显示亮度。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点,提出一种彩膜基板、液晶显示装置及制备方法,用以解决现有技术存在彩膜基板中的亚像素串色、亚像素偏移、亚像素重叠或透光性不足的技术问题。

第一方面,本申请实施例提供了一种彩膜基板,包括:

基板、亚像素矩阵和黑矩阵;

亚像素矩阵设置于基板的一侧,亚像素矩阵包括多种颜色的亚像素,黑矩阵包括多个黑矩阵单元,黑矩阵单元填充于亚像素之间的间隙中;

并且,相邻的两个亚像素之间在临近基板一侧的距离,小于相邻的两个亚像素之间远离基板一侧的距离。

第二方面,本申请实施例提供了一种液晶显示装置,包括:

彩膜基板、阵列基板和液晶层;

彩膜基板和阵列基板对盒设置,液晶层设置于彩膜基板和阵列基板之间,彩膜基板为前述实施例中的彩膜基板。

第三方面,本申请实施例提供了一种彩膜基板的制备方法,包括:

在基板上,设置包括多种颜色亚像素的亚像素矩阵,调整曝光间隔,使得相邻的两个亚像素之间在临近基板一侧的距离,小于相邻的两个亚像素之间远离基板一侧的距离;

形成包括多个黑矩阵单元的黑矩阵,黑矩阵单元填充于亚像素之间的间隙中。

第四方面,本申请实施例提供了一种液晶显示装置的制备方法,包括:

采用前述实施例中的制备方法制备彩膜基板;

制备阵列基板;

在阵列基板上设置液晶层;

将彩膜基板和阵列基板对盒设置。

本申请实施例提供的技术方案,至少具有如下有益效果:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910386010.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top