[发明专利]一种制备片状氧化铁的方法

权利要求书

1.一种制备片状氧化铁的方法，其特征在于，所述片状氧化铁通过真空镀膜机制得，所述真空镀膜机包括真空泵、真空管路布置、真空镀膜室、片状氧化铁承料室和放电气体接入口；所述片状氧化铁承料室位于真空镀膜室的下方，所述真空镀膜室包括外壳，所述真空镀膜室的底部设置有靶材安装平台，所述靶材安装平台上方设置有与片状氧化铁承料室相连的片状氧化铁接盘，所述真空镀膜室的内部均匀设置有若干个大辊轮和小辊轮，大辊轮和小辊轮通过传送带相互连接，所述真空镀膜室的两侧设置有加热设备，所述真空镀膜室的中部对称设有用于剥离片状氧化铁的刮刀，所述刮刀由刮刀控制器控制。

2.根据权利要求1所述的制备片状氧化铁的方法，其特征在于：所述真空镀膜机为立式或卧式。

3.根据权利要求1所述的制备片状氧化铁的方法，其特征在于：所述传送带为塑料薄膜，柔性金属薄膜或橡胶薄膜传送带。

4.根据权利要求3所述的制备片状氧化铁的方法，其特征在于：所述塑料薄膜传送带具体为特氟龙薄膜或聚酰亚胺塑料薄膜传送带，所述金属薄膜传送带为不锈钢薄膜传送带，所述橡胶薄膜传送带为氟橡胶薄膜传送带。

5.根据权利要求1所述的制备片状氧化铁的方法，其特征在于：所述方法具体包括以下步骤：

（1）将氧化铁靶材安装于真空镀膜室的靶材安装平台上，并将传送带清理干净，控制靶材溅射方向，保证氧化铁粒子沉积在传送带表面；

（3）关闭真空镀膜室，开启真空泵，将真空镀膜室内抽成真空；

（4）开启加热设备，将真空镀膜室加热到一定温度，进行排气，保证真空镀膜室的真空度；

（5）充入电离气体，放电，激发氧化铁靶材产生高能粒子，沉积在传送带表面；

（6）启动大小辊轮，使传送带的表面均匀镀上片状氧化铁，完成镀膜操作后，进行放气，再开启刮刀控制器，通过刮刀将传送带上的片状氧化铁进行剥离到片状氧化铁接盘内；

（7）将真空镀膜室的温度升高，对片状氧化铁接盘内的片状氧化铁进行煅烧处理，然后将处理后的片状氧化铁导入真空镀膜室下方的片状氧化铁承料室进行收集。

6.根据权利要求5所述的制备片状氧化铁的方法，其特征在于：步骤（1）中氧化铁靶材为块状或粒状，通过压片机制得。

7.根据权利要求5所述的制备片状氧化铁的方法，其特征在于：步骤（3）抽真空的真空度为10^-4~10^-1 Pa。

8.根据权利要求5所述的制备片状氧化铁的方法，其特征在于：步骤（4）中加热温度为200~400℃。

9.根据权利要求5所述的制备片状氧化铁的方法，其特征在于：步骤（5）中所述电离气体为惰性气体，气体充入速率为0.1~0.5ml/min。

10.根据权利要求5所述的制备片状氧化铁的方法，其特征在于：步骤（6）中煅烧温度为600~700℃，煅烧时间为10-15min。