[发明专利]显示面板的母板曝光结构

说明书

本发明提供了一种显示面板的母板曝光结构，涉及显示面板制程领域，所述显示面板曝光结构包括多个曝光区，所述多个曝光区沿第一方向并排设置，每个所述曝光区沿所述第一方向的尺寸为d1，相邻两个所述曝光区之间的间距为d2，用于对所述显示面板母板进行曝光的掩膜板在所述第一方向上的尺寸为d，用于对所述显示面板母板及所述掩膜板进行定位的定位装置在所述显示面板母板上的投影区域为第一区域，所述第一区域在所述第一方向上的尺寸为d3，其中，所述d1、d2、d3和d满足下列关系式：d1+2*d2≤d，d2≥d3；通过对所述曝光区的尺寸及所述曝光区在所述显示面板母板上的布局进行如上安排配置，可以简化曝光制程的工序，提高生产效率。

技术领域

本发明涉及显示面板制程领域，尤其涉及一种显示面板的母板曝光结构。

背景技术

在显示面板的制程领域，会在一块显示面板母板上制作多块显示面板区域，最后对显示面板母板进行分割以形成多块显示面板。在显示面板制程中需要多次对显示面板母板进行曝光处理，如在显示面板母板上形成光阻层的曝光处理等。因此，曝光处理的使用时间直接影响着显示面板的生产效率。

使用曝光机对显示面板母板进行曝光处理的工序包括：母板移动、母板与掩膜板定位、定位装置退避、以及曝光窗口打开进行曝光。在现有技术下，上述曝光工序缺一不可，且每一道工序的优化程度已经达到极限，因此难以进一步提高曝光效率。然而，现代生产又要求不断提高生产效率，降低生产成本。

在整个曝光工序中，定位装置退避是一个相对耗时的步骤，若可以省去将会大大提高曝光效率；定位装置退避是为了防止定位装置遮挡曝光光线，造成母板曝光不良，因此，若要省去这一步，就需要对显示面板母板曝光结构进行重新设计，以满足曝光需求。

发明内容

基于上述现有技术中曝光工序效率低的问题，本发明通过对显示面板母板的曝光结构进行重新设计，在对显示面板母板进行曝光处理时，无需进行定位装置退避的动作，简化了生产工艺，提高了生产效率。

本发明提供了一种显示面板的母板曝光结构，包括多个曝光区，所述多个曝光区沿第一方向并排设置，每个所述曝光区沿所述第一方向的尺寸定义为d1，相邻两个所述曝光区之间的间距定义为d2，用于对所述显示面板母板进行曝光的掩膜板在所述第一方向上的尺寸定义为d，其中，所述d1、d2和d满足下列关系式：

d1+2*d2≤d。

根据本发明一实施例，用于对所述显示面板母板进行曝光的机台包括定位装置，对所述显示面板的母板进行曝光时，所述掩膜板设置于所述显示面板母板之上，所述定位装置设置于所述掩膜板之上，所述定位装置在所述显示面板母板上的垂直投影区为第一区域，所述第一区域在所述第一方向上的尺寸定义为d3，其中，所述d2与所述d3之间满足下列关系式：

d2≥d3。

根据本发明一实施例，所述第一区域与所述曝光区无重合。

根据本发明一实施例，所述定位装置包括显微镜和挡片，所述显微镜在所述显示面板母板上的垂直投影区为第二区域，所述挡片在所述显示面板母板上的垂直投影区为第三区域，所述第二区域与所述第三区域在所述第一方向上的尺寸分别定义为a1和a2，且满足：a1+a2＝d3。

根据本发明一实施例，所述显微镜具有圆形截面，所述第二区域为圆形区域，所述第二区域在所述第一方向上的尺寸是所述圆形区域的直径。

根据本发明一实施例，所述挡片具有矩形截面，所述第三区域为矩形区域，所述第三区域在所述第一方向上的尺寸是所述矩形区域的在所述第一方向上的边长。

根据本发明一实施例，所述掩膜板包括图案区和边缘区，所述图案区在所述显示面板母板上的投影覆盖所述曝光区。