[发明专利]元件基板及其制造方法

说明书

一种元件基板及其制造方法。元件基板包括基板以及图案化层。图案化层位于基板上。图案化层包括由第一光罩所定义的第一区以及由第二光罩所定义的第二区。第一区包括第一对位标记。第二区包括第二对位标记。第一对位标记与第二对位标记相邻于第一区与第二区的交界处。

技术领域

本发明涉及一种元件基板，且特别涉及一种包括图案化层的元件基板及其制造方法。

背景技术

随着技术进展，显示面板的尺寸也逐年增加。目前，显示面板中的许多膜层会通过微影蚀刻制程来形成，而在微影蚀刻制程中会通过光罩来定义膜层的形状。在显示面板尺寸超过单一光罩最大曝光尺寸时，会使用多个光罩拼接来完成各道黄光微影的曝光制程。举例来说，通过第一个光罩定义出膜层其中一部分的形状，接着再利用第两个光罩定义出膜层其中另一部分的形状。然而，使用光罩拼接来进行影蚀刻制程时，不同的光罩之间的相对位置很难对准，容易导致制造出来的显示面板出现亮度不均(mura)的问题，甚至可能在对应光罩拼接处出现线条。

发明内容

本发明提供一种元件基板，可以提升光罩拼接的准确度。

本发明提供一种元件基板的制造方法，可以提升光罩拼接的准确度。

本发明的至少一实施例提供一种元件基板，包括基板以及图案化层。图案化层位于基板上。图案化层包括由第一光罩所定义的第一区以及由第二光罩所定义的第二区。第一区包括第一对位标记。第二区包括第二对位标记。第一对位标记与第二对位标记相邻于第一区与第二区的交界处。

本发明的至少一实施例提供一种元件基板，包括基板以及图案化层。图案化层位于基板上。图案化层包括第一区、第二区、第三区以及第四区。第一区包括多个第一对位标记。第二区包括多个第二对位标记。第三区包括多个第三对位标记。第四区包括多个第四对位标记。其中一个第一对位标记与其中一个第二对位标记相邻于第一区与第二区的交界处。其中另一个第一对位标记与其中一个第三对位标记相邻于第一区与第三区的交界处。其中另一个第二对位标记与其中一个第四对位标记相邻于第二区与第四区的交界处。其中另一个第三对位标记与其中另一个第四对位标记相邻于第三区与第四区的交界处。

本发明的至少一实施例提供一种元件基板的制造方法，包括：提供基板；形成膜层于基板上；形成图案化光阻层于膜层上；以及以图案化光阻层为罩幕图案化膜层，以形成图案化层。形成图案化光阻层的方法包括：形成光阻层于膜层上；由第一光罩于光阻层定义出第一光阻区；以及由第二光罩于光阻层定义出第二光阻区。第一光阻区包括多个第一对位光阻。第二光阻区包括多个第二对位光阻。其中一个第一对位光阻与其中一个第二对位光阻相邻于第一光阻区与第二光阻区的交界处。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。

附图说明

图1A～图1H是依照本发明的一实施例的一种元件基板的制造过程的俯视示意图。

图2A是依照本发明的一实施例的一种对位标记及其周围构件的俯视示意图。

图2B是沿着图2A剖面线AA’的剖面示意图。

图3是依照本发明的一实施例的一种对位标记及其周围构件的俯视示意图。

图4是依照本发明的一实施例的一种对位标记及其周围构件的俯视示意图。

图5是依照本发明的一实施例的一种对位标记及其周围构件的俯视示意图。

图6A和图6B是依照本发明的一实施例的一种元件基板的制造过程的俯视示意图。

其中，附图标记说明如下：

10、10a、10b、10c、10d、10e：元件基板

100：基板

110：膜层