[发明专利]一种阻焊线路一体曝光的LD多光谱曝光方法及系统在审
申请号: | 201910403643.3 | 申请日: | 2019-05-15 |
公开(公告)号: | CN111954386A | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 徐珍华;梅文辉;王瑞;汪孝军;劳仲标 | 申请(专利权)人: | 中山新诺科技股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06;G03F7/20 |
代理公司: | 北京知呱呱知识产权代理有限公司 11577 | 代理人: | 孙志一;苏利 |
地址: | 528437 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 线路 一体 曝光 ld 光谱 方法 系统 | ||
1.一种阻焊线路一体曝光的LD多光谱曝光方法,其特征是:包括以下步骤
S1、将若干个不同波长的LD光线进行组合合光;
S2、合光后的光线经过变向件将光线变向到空间光调制器(102);
S3、由空间光调制器(102)通过图形调制把数字信号转化成光信号;
S4、将空间光调制器(102)投射的光线经过宽光谱成像系统(104)成像在曝光板(105)上。
2.根据权利要求1所述的一种阻焊线路一体曝光的LD多光谱曝光方法,其特征是:所述步骤S1还包括以下步骤
S1.1、将若干个不同波长的光线分别进行耦合处理;
S1.2、将进行耦合处理后的若干个光线进行匀光处理;
S1.3、将进行匀光处理后的若干个光线进行聚焦整形处理;
S1.4、将进行聚焦整形处理的若干个光线通过若干个分光镜合光。
3.根据权利要求1所述的一种阻焊线路一体曝光的LD多光谱曝光方法,其特征是:所述步骤S1还包括以下步骤
S1.1、将若干个不同波长的光线经过分光滤光片(300)进行合光处理;
S1.2、将经过分光滤光片(300)进行合光处理后的光线进行耦合处理;
S1.3、将进行耦合处理后的光线进行匀光处理;
S1.4、将进行匀光处理后的光线进行聚焦整形处理。
4.根据权利要求1所述的一种阻焊线路一体曝光的LD多光谱曝光方法,其特征是:所述步骤S1还包括以下步骤
S1.1、将若干个不同波长的光线分别通入不同的光纤进行耦合合光处理,若干个光纤的出光口(401)为同一个出光口(401);
S1.2、将经过光纤进行耦合合光处理后的光线进行聚焦整形处理。
5.一种阻焊线路一体曝光的LD多光谱曝光系统,其特征是:包括
合光照明系统(101):将若干个不同波长的LD光线进行组合合光;
合光后的光线经过反射镜(103)反射到空间光调制器(102);
空间光调制器(102):把数字信号转化成光信号并投射光线;
宽光谱成像系统(104):将空间光调制器(102)投射的光线成像在曝光板(105)上。
6.根据权利要求5所述的一种阻焊线路一体曝光的LD多光谱曝光系统,其特征是:所述合光照明系统(101)包括
若干个耦合件:将若干个不同波长的光线分别进行耦合处理;
若干个匀光件:将进行耦合处理后的若干个光线进行匀光处理;
若干个聚焦整形镜组:将进行匀光处理后的若干个光线进行聚焦整形处理;
若干个分光镜:将进行聚焦整形处理的若干个光线合光。
7.根据权利要求5所述的一种阻焊线路一体曝光的LD多光谱曝光系统,其特征是:所述合光照明系统(101)包括
分光滤光片(300):将若干个不同波长的光线进行合光处理;
耦合件:将经过分光滤光片(300)进行合光处理后的光线进行耦合处理;
匀光件:将进行耦合处理后的光线进行匀光处理;
聚焦整形镜组:将进行匀光处理后的光线进行聚焦整形处理。
8.根据权利要求5所述的一种阻焊线路一体曝光的LD多光谱曝光系统,其特征是:包括
若干个出光口(401)为同一出光口(401)的光纤:将若干个不同波长的光线耦合合光处理;
聚焦整形镜组:将经过光纤进行耦合合光处理后的光线进行聚焦整形处理。
9.根据权利要求5所述的一种阻焊线路一体曝光的LD多光谱曝光系统,其特征是:所述控制方式选用激光脉冲同步控制方式。
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