[发明专利]一种黑色光阻衬底雾状的清洗方法

权利要求书

1.一种黑色光阻衬底雾状的清洗方法，其特征在于，步骤如下：

提供一黑色光阻衬底，所述黑色光阻衬底包括衬底层和形成于所述衬底层上的黑色光阻图案层，所述黑色光阻图案层具有镂空区域和光阻区域，制作所述黑色光阻图案层的黑色光阻材料中含有碳黑；

采用流体对所述衬底层在所述镂空区域中的露出部分进行冲洗，其中，所述流体对所述衬底层上残留的碳黑的剥离力大于所述碳黑对所述衬底层的附着力；

所述流体为高压或超高压，压强为70Mpa-150Mpa。

2.根据权利要求1所述的黑色光阻衬底雾状的清洗方法，其特征在于，所述流体为液体或气体。

3.根据权利要求1所述的黑色光阻衬底雾状的清洗方法，其特征在于，所述黑色光阻衬底的制作步骤为：先在所述衬底层上涂布所述黑色光阻材料，然后对所述黑色光阻材料进行预烘烤形成黑色光阻层，接着对所述黑色光阻层进行曝光显影形成所述黑色光阻图案层。

4.根据权利要求3所述的黑色光阻衬底雾状的清洗方法，其特征在于，所述黑色光阻图案层的镂空区域对应于所述黑色光阻层中已曝光而去除的区域，所述黑色光阻图案层的光阻区域对应于所述黑色光阻层中未曝光而留下的区域。

5.根据权利要求1所述的黑色光阻衬底雾状的清洗方法，其特征在于，在采用流体对所述衬底层在所述镂空区域中的露出部分进行冲洗之后，还包括：

检测所述衬底层上残留的碳黑是否已冲洗干净。

6.根据权利要求5所述的黑色光阻衬底雾状的清洗方法，其特征在于，检测所述衬底层上残留的碳黑是否已冲洗干净的步骤如下：

对所述衬底层在所述镂空区域中的露出部分进行局部擦拭；

判断所述衬底层的擦拭处和未擦拭处之间是否存在颜色断层；

若不存在颜色断层，则所述衬底层上残留的碳黑已冲洗干净。

7.根据权利要求6所述的黑色光阻衬底雾状的清洗方法，其特征在于，判断是否存在颜色断层在黑背景和2000照度的条件下进行。

8.根据权利要求5-7中任一所述的黑色光阻衬底雾状的清洗方法，其特征在于，检测所述衬底层上残留的碳黑是否已冲洗干净的步骤如下：

对所述衬底层在所述镂空区域中的露出部分进行擦拭；

在所述衬底层露出的部分内制作无机非金属氧化物透明层；

判断所述衬底层露出的部分是否存在色差；

若不存在色差，则所述衬底层上残留的碳黑已冲洗干净。