[发明专利]一种黑色光阻衬底雾状的清洗方法

说明书

本发明公开了一种黑色光阻衬底雾状的清洗方法，步骤如下：提供一黑色光阻衬底，所述黑色光阻衬底包括衬底层和形成于所述衬底层上的黑色光阻图案层，所述黑色光阻图案层具有镂空区域和光阻区域，制作所述黑色光阻图案层的黑色光阻材料中含有碳黑；采用流体对所述衬底层在所述镂空区域中的露出部分进行冲洗，其中，所述流体对所述衬底层上残留的碳黑的剥离力大于所述碳黑对所述衬底层的附着力。该清洗方法可以有效地对黑色光阻衬底的雾状现象进行改善。

技术领域

本发明涉及衬底清洗技术，尤其涉及一种黑色光阻衬底雾状的清洗方法。

背景技术

黑色光阻是一种用于制作遮光图案的光阻材料，经常被使用于光电产品中，比如显示屏的黑色矩阵、镜头的黑色遮光环等，也经常被使用于光刻工艺中对电路层或其他功能层进行选择性刻蚀，以制作所需的电路图案层或其他功能图案层，比如芯片的电路、显示屏的TFT等。

如图1所示，黑色光阻衬底包括衬底层1和形成于所述衬底层1上的黑色光阻图案层2，其制作步骤为：先在所述衬底层1上涂布黑色光阻材料，然后对所述黑色光阻材料进行预烘烤形成黑色光阻层，接着对所述黑色光阻层进行曝光显影形成所述黑色光阻图案层2。其中所述黑色光阻层中已曝光而去除的区域形成所述黑色光阻图案层2的镂空区域21，所述黑色光阻层中未曝光而留下的区域形成所述黑色光阻图案层2的光阻区域22。

所述衬底层1在所述镂空区域21中的露出部分会存在雾状现象。现有技术中，技术人员认为雾状现象的产生原因是：在对所述黑色光阻层进行曝光显影形成所述黑色光阻图案层2后，显影液未能及时清除而对所述衬底层1在所述镂空区域21中的露出部分造成腐蚀，致使所述衬底层1在该露出部分的表面凹凸不平，进而对光线产生漫反射。因此，在现有技术中，技术人员一般通过缩短曝光显影的时间，或者，改用对所述衬底层1腐蚀力较低的显影液来改善雾状现象，但是，雾状现象的改善效果却一直很不理想。

本案发明人创造性地发现：雾状现象的产生原因并非是显影液对所述衬底层1腐蚀所致，而是所述黑色光阻材料中含有碳黑23，所述碳黑23对所述衬底层1的附着力较大，在曝光显影并进行清洗后，所述衬底层1在所述镂空区域21中的露出部分的表面上残留有碳黑23，残留的碳黑23导致了雾状现象。

发明内容

为了解决上述现有技术的不足，本发明提供一种黑色光阻衬底雾状的清洗方法，可以有效地对黑色光阻衬底的雾状现象进行改善。

本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

一种黑色光阻衬底雾状的清洗方法，步骤如下：

提供一黑色光阻衬底，所述黑色光阻衬底包括衬底层和形成于所述衬底层上的黑色光阻图案层，所述黑色光阻图案层具有镂空区域和光阻区域，制作所述黑色光阻图案层的黑色光阻材料中含有碳黑；

采用流体对所述衬底层在所述镂空区域中的露出部分进行冲洗，其中，所述流体对所述衬底层上残留的碳黑的剥离力大于所述碳黑对所述衬底层的附着力。

进一步地，所述流体为液体或气体。

进一步地，所述流体为高压或超高压。

进一步地，所述流体的压强为70Mpa-150Mpa。

进一步地，所述黑色光阻衬底的制作步骤为：先在所述衬底层上涂布所述黑色光阻材料，然后对所述黑色光阻材料进行预烘烤形成黑色光阻层，接着对所述黑色光阻层进行曝光显影形成所述黑色光阻图案层。

进一步地，所述黑色光阻图案层的镂空区域对应于所述黑色光阻层中已曝光而去除的区域，所述黑色光阻图案层的光阻区域对应于所述黑色光阻层中未曝光而留下的区域。

进一步地，在采用流体对所述衬底层在所述镂空区域中的露出部分进行冲洗之后，还包括：

检测所述衬底层上残留的碳黑是否已冲洗干净。