[发明专利]掩膜装置有效
申请号: | 201910411830.6 | 申请日: | 2019-05-17 |
公开(公告)号: | CN110117768B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 曾佳;陈奎;宋育准;曹东旭 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
本申请涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种掩膜装置,其包括框架结构、至少一个掩膜板及至少一个收缩片,该掩膜板与所述框架结构连接;所述收缩片连接所述掩膜板与所述框架结构,和/或所述收缩片连接相邻所述掩膜板;其中,所述收缩片能够在收缩过程中向所述掩膜板施加拉力,从而可减轻掩膜板的褶皱和下垂量,以提高蒸镀良率。
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种掩膜装置。
背景技术
目前,OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)通常采用真空蒸镀工艺沉积而成,在此工艺过程中需要使用掩模装置。该掩模装置包括框架结构和掩膜板,该掩膜板需要先通过张网装置张紧,然后再固定在框架结构上。但在张网过程中,由于掩模板需要通过夹抓加持进行拉伸,这样加持部位与未加持部位受力情况不一致,因此,使得掩膜板容易产生褶皱;此外,掩膜板在自身重力作用下容易下垂,这样会严重影响蒸镀良率。
需要说明的是,在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本申请的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本申请的目的在于提供一种掩膜装置,能够提高蒸镀良率。
本申请提供了一种掩膜装置,其包括:
框架结构;
至少一个掩膜板,与所述框架结构连接;
至少一个收缩片,所述收缩片连接所述掩膜板与所述框架结构,和/或所述收缩片连接相邻所述掩膜板;
其中,所述收缩片能够在收缩过程中向所述掩膜板施加拉力。
在本申请的一种示例性实施例中,所述收缩片包括取向层和粘接层,所述取向层通过所述粘接层与所述掩膜板或所述框架结构连接,所述取向层能够在预设温度下进行收缩以向所述掩膜板施加拉力。
在本申请的一种示例性实施例中,所述框架结构包括框架主体及竖向遮挡片,所述竖向遮挡片在第一方向上延伸且其相对两端分别与所述框架主体连接;
所述掩膜板设置有多个,并在第二方向上间隔排布,各所述掩膜板与所述框架主体连接,
其中,在所述掩膜板的厚度方向上得到的投影中,相邻所述掩膜板之间的间隙投影位于所述竖向遮挡片的投影内,所述第一方向、所述第二方向及所述厚度方向之间两两相互垂直。
在本申请的一种示例性实施例中,所述掩膜板具有在所述厚度方向上相对设置的第一面和第二面,
所述掩膜板包括工作区和固定区,所述工作区在所述第一方向上的相对两侧分别设置有所述固定区;
其中,所述第一面上与所述固定区相对的部位与所述框架主体连接。
在本申请的一种示例性实施例中,所述工作区包括多个在所述第一方向上间隔设置的开槽区及限定在相邻所述开槽区之间的蒸镀区;
其中,所述蒸镀区中设置有多个贯穿所述第一面和所述第二面的蒸镀孔,所述第二面上与所述开槽区相对的部位开设有安装槽,所述安装槽中安装有所述收缩片的端部。
在本申请的一种示例性实施例中,所述收缩片的厚度小于或等于所述安装槽的深度。
在本申请的一种示例性实施例中,所述安装槽在所述第二方向上贯穿所述第一面的相对两侧。
在本申请的一种示例性实施例中,所述框架结构还包括横向遮挡片,所述横向遮挡片在所述第二方向上延伸且其相对两端分别与所述框架主体连接;
所述开槽区中设有多个贯穿所述安装槽的槽底和所述第一面的通孔,各所述通孔与所述蒸镀孔相同;
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