[发明专利]一种用于半导体温控装置的温度控制算法有效
申请号: | 201910413250.0 | 申请日: | 2019-05-17 |
公开(公告)号: | CN110187726B | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 常鑫;芮守祯;何茂栋 | 申请(专利权)人: | 安徽京仪自动化装备技术有限公司 |
主分类号: | G05D23/30 | 分类号: | G05D23/30 |
代理公司: | 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 | 代理人: | 郑直 |
地址: | 241000 安徽省芜湖*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 半导体 温控 装置 温度 控制 算法 | ||
1.一种用于半导体温控装置的温度控制算法,其特征在于,包括制冷系统和循环系统,所述制冷系统用于控制温度,所述循环系统用于液体循环;
所述制冷系统包括压缩机(1)、卸载阀(2)、冷凝器(3)、电子膨胀阀(4)和蒸发器(5),所述压缩机(1)与卸载阀(2)连接,所述冷凝器(3)分别通过卸载阀(2)和电子膨胀阀(4)与蒸发器(5)连接;
所述循环系统包括加热器(6)、水箱(7)、水泵(8)、入口温度传感器(9)、出口温度传感器(10)和回口温度传感器(11),所述加热器(6)位于水箱(7)内,所述水箱(7)、水泵(8)和蒸发器(5)依次连接形成回路,所述入口温度传感器(9)位于水箱(7)入口处,所述出口温度传感器(10)位于水箱(7)出口处,所述回口温度传感器(11)位于蒸发器(5)入口处;
所述温度控制算法是:
第一步,根据采集和设定目标温度判定温控装置的状态;
具体分为3个状态,分别是空载、加载中和卸载中;
首先设定出口温度传感器(10)采集的温度为T1,回口温度传感器(11)采集的温度为T2,入口温度传感器(9)采集的温度为T3,同时设定出口目标温度为SV,制冷系统目标温度为SV1,
若T2-30s前的T20.5℃、T2变化率0.1℃/s且持续时间=7s、-0.5℃=SV-T1=0.5℃持续时间=10s、T2-T1=0.5℃,则判定状态为加载中;
若在加载中状态下,T2-30s前的T20.5℃、T2变化率0.1℃/s且持续时间=7s、-0.5℃=SV-T1=0.5℃持续时间=10s、T2-T1=0.5℃,则判定状态为卸载中;
若在卸载中状态下,T2-SV=0.8℃,则判定状态为空载;
第二步,确定制冷量;
在空载状态时,对应不同的目标温度,给定不同的固定制冷量,即对应不同温度点给定不同的空载制冷量COUT1,同时在空载状态下通过入口温度传感器(9)采集的温度T3的前20s内的最小值为T4,最大值T5;
当识别加载中状态时,开启制冷的PID算法,制冷目标温度为SV1=T4+(T5-T4)*X1,其中X1为修正系数,范围为0~1,对应的SV1的范围为T4到T5之间,通过PLC的PID算法得到PID运算的制冷量COUT2,对于输出的制冷量COUT3=COUT1+COUT2*X2,其中X2为修正系数,范围为0-1;
当识别卸载状态时,修正制冷目标SV1=T4+(T5-T4)*X1+X3,此处X3=1;
当识别空载状态时,制冷量重新给定为固定值,PLC的PID算法关闭。
2.根据权利要求1所述的一种用于半导体温控装置的温度控制算法,其特征在于:所述循环系统外部连接负载,所述制冷系统控制水箱(7)入口温度在一定温度波动,加热器(6)控制出口温度稳定在给定的目标温度。
3.根据权利要求1所述的一种用于半导体温控装置的温度控制算法,其特征在于:所述制冷系统中压缩机(1)为数码涡旋压缩机。
4.根据权利要求1所述的一种用于半导体温控装置的温度控制算法,其特征在于:加载中状态下,还能够通过回口温度的变化提前修正制冷目标温度和制冷的输出。
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